[发明专利]一种芳纶涂覆隔膜及其制备方法

权利要求书

1.一种芳纶涂覆隔膜，其特征在于，包括：

多孔基膜；

芳纶涂层，所述芳纶涂层连续分布于多孔基膜表面并具有多孔结构；

芳纶粘结层，所述芳纶粘结层分布于所述芳纶涂层表面，并通过其多孔结构渗透到所述多孔基膜的多孔结构中，将所述芳纶涂层与所述多孔基膜进行粘结；其中，所述芳纶涂层由间苯二胺和间苯二甲酰氯在有机溶剂中缩聚后，进行涂覆得到；所述芳纶粘结层由间苯二胺和间苯二甲酰氯原位界面聚合得到。

2.根据权利要求1所述的芳纶涂覆隔膜，其特征在于，所述芳纶涂层的厚度为0.1～4 μm，孔隙率为30～70%。

3.根据权利要求1所述的芳纶涂覆隔膜，其特征在于，所述多孔基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜和聚戊烯膜中的一种或两种以上复合而成的复合膜；

所述多孔基膜的厚度为5～50 μm，孔径为0.1～1 μm，孔隙率为60～90%。

4.权利要求1～3任一项所述的芳纶涂覆隔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将间苯二胺溶解在有机溶剂中，在冷却浴中降温，加入间苯二甲酰氯，发生缩聚反应，再撤掉冷却浴，加入成孔剂，得到芳纶浆料；

S2、在多孔基膜一侧或两侧涂布上述芳纶浆料，干燥得到芳纶涂覆隔膜前体；

S3、将上述芳纶涂覆隔膜前体在间苯二胺水溶液中进行第一浸泡，干燥后再在间苯二甲酰氯的有机溶液中进行第二浸泡，进行原位界面聚合，得到所述芳纶涂覆隔膜；

所述步骤S3中，间苯二胺在水溶液中的质量分数为1～5 wt%；间苯二甲酰氯在有机溶液中的质量分数为0.1～5 wt%；所述第一浸泡时间为1～10 min，所述第二浸泡时间为0.5～10 min。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述有机溶剂选自DMAc、NMP、DMF和DMSO中的至少一种；

所述降温温度为-10～0℃；

所述步骤S1中，间苯二胺与间苯二甲酰氯的摩尔比为(0.95～1.05) : 1；

所述芳纶浆料中，芳纶的质量分数为1～20 wt%。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述成孔剂选自碳酸氢铵、碳酸铵中的至少一种；所述芳纶浆料中，成孔剂的质量分数为1～20 wt%。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，

所述间苯二甲酰氯的有机溶液中的溶剂选自正己烷、正庚烷、异庚烷中的至少一种。

8.一种锂离子电池，包括权利要求1～3任一项所述的芳纶涂覆隔膜或权利要求4～7任一项所述制备方法得到的芳纶涂覆隔膜。