[发明专利]一种吸气薄膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种吸气薄膜，其特征在于，其是由依次在基材表面上生长的打底层和吸气层组成，该打底层是由Cr构成，该吸气层是由Pd构成；所述打底层和吸气层均为柱状晶粒结构。

2.根据权利要求1所述的一种吸气薄膜，其特征在于：所述基材为热管、水冷板或均温板。

3.根据权利要求1所述的一种吸气薄膜，其特征在于，打底层中的Cr的纯度为99.95％以上，吸气层中的Pd的纯度为99.95％以上。

4.根据权利要求1所述的一种吸气薄膜，其特征在于，所述打底层的厚度为0.001～10μm，所述吸气层的厚度为0.1～10μm。

5.根据权利要求1所述的一种吸气薄膜，其特征在于，所述打底层和吸气层均是通过磁控溅射的方法沉积而成。

6.权利要求1至5任一项所述的一种吸气薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)准备基材，利用碳酸钠去脂剂对基材进行清洗；

(2)将清洗后的基材放置于烤箱中，于25～100℃的温度条件下，烘烤1～60min；

(3)对经过步骤(2)处理后的基材进行辉光清洗，辉光清洗的电压为100～1000V，工作压强为1～100Pa，清洗时间为5～60min；

(4)在基材上利用磁控溅射的方法沉积Cr薄膜，作为打底层；

(5)在打底层上利用磁控溅射的方法沉积Pd薄膜，作为吸气层。

7.根据权利要求6所述的一种吸气薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)和步骤(5)中，制备打底层和吸气层时，沉积室的真空度达到6.0×10^-5～3×10^-3Pa，沉积过程中的工作压强为0.1～2.0Pa，溅射电流为0.01～10A，功率密度为10～200W/cm²，沉积时间为1～200min。

8.权利要求1至5任一项所述的吸气薄膜在热管、水冷板或均温板上的应用。