[发明专利]蒸镀设备及蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

蒸镀室，在该蒸镀室中放置待蒸镀晶圆；以及

蒸发源，利用该蒸发源，在所述待蒸镀晶圆表面蒸镀金属膜，

所述金属膜是由合金金属和稀土元素形成薄膜，

利用所述蒸发源，通过蒸发镀膜方式来添加所述稀土元素。

2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述蒸发源包括第一蒸发源和第二蒸发源，

利用所述第一蒸发源对所述合金金属进行蒸发，

利用所述第二蒸发源对所述稀土元素进行蒸发。

3.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述第一蒸发源是电子束蒸发源，所述第二蒸发源是电阻蒸发源。

4.如权利要求2或3所述的蒸镀设备，其特征在于，

所述第一蒸发源与所述第二蒸发源的蒸距相同。

5.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，

通过控制所述蒸发源的蒸镀速率，来计算出所述合金金属或所述稀土元素的单位质量分数，即，在单位镀膜时间内所蒸镀得到的所述合金金属或所述稀土元素的质量分数。

6.如权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，

根据所述金属膜中所述合金金属和所述稀土元素的质量分数要求，基于所述单位质量分数来设定所述蒸发源的实际蒸镀速率。

7.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，

在所述金属膜中，所述稀土元素的含量根据所选择的稀土元素种类的不同而不同。

8.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：

在蒸镀室中放置待蒸镀晶圆的步骤；以及

利用蒸发源，在所述待蒸镀晶圆表面蒸镀金属膜的步骤，

所述金属膜是由合金金属和稀土元素形成薄膜，

利用所述蒸发源，通过蒸发镀膜方式来添加所述稀土元素。

9.如权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，

所述蒸发源包括第一蒸发源和第二蒸发源，

利用所述第一蒸发源对所述合金金属进行蒸发，

利用所述第二蒸发源对所述稀土元素进行蒸发。

10.如权利要求8或9所述的蒸镀方法，其特征在于，

通过控制所述蒸发源的蒸镀速率，来计算出所述合金金属或所述稀土元素的单位质量分数，即，在单位镀膜时间内所蒸镀得到的所述合金金属或所述稀土元素的质量分数。

11.如权利要求10所述的蒸镀方法，其特征在于，

根据所述金属膜中所述合金金属和所述稀土元素的质量分数要求，基于所述单位质量分数来设定所述蒸发源的实际蒸镀速率。