[发明专利]一种适用于薄型单晶硅片的制绒添加剂及应用

权利要求书

1.一种适用于薄型单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：由如下质量百分比含量的组分组成：绒面成核剂 0.5~5.0%、绒面缓蚀剂0.02~0.5%、绒面尺寸调整剂 0.001~0.01%、余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种适用于薄型单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述绒面成核剂为羧甲基纤维素钠、黄原胶、海藻酸钠中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的一种适用于薄型单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述绒面缓蚀剂为邻苯二甲酸钠、对甲苯磺酸钠、龙胆酸钠中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的一种适用于薄型单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：绒面尺寸调整剂为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一种或几种。

5.如权利要求1-4任一项所述的制绒添加剂的应用，其特征在于：所述制绒添加剂适用于薄型单晶硅片的制绒，具体包括以下步骤：

（1）配制制绒添加剂：将质量百分比为0.5~5%的绒面成核剂、0.02~0.5%的绒面缓蚀剂、0.001~0.01%的绒面尺寸调整剂加入到余量的去离子水中，混合均匀配成制绒添加剂；

（2）配制制绒液：将步骤（1）的制绒添加剂按质量百分比为0.4~1:100的比例加入到碱溶液中混合均匀，得制绒液；

（3）制绒：将薄型单晶硅片投入步骤（2）配制的制绒液中进行表面制绒，温度75~85℃，时间300~450s，取出硅片进行水洗和酸洗，得制绒后硅片。

6.根据权利要求5所述的制绒添加剂的应用，其特征在于：步骤（2）中，所述碱溶液为0.5~2.5wt%的NaOH或KOH溶液。

7.根据权利要求5所述的制绒添加剂的应用，其特征在于：步骤（3）之前还包括将薄型单晶硅片放入双氧水、氢氧化钠和去离子水的混合溶液中进行预清洗，温度60~65℃，时间150~350s。

8.根据权利要求7所述的制绒添加剂的应用，其特征在于：所述双氧水、氢氧化钠和去离子水的比例为1.5~3:0.5~1:100。