[发明专利]一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备

说明书

本发明涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备，包括真空室，真空室内设有镀膜辊以及沿着镀膜辊的圆周方向依次设置的收放卷室、磁控溅射镀膜室、第一隔气室、气态蒸发镀膜室、第二隔气室；用于卷绕基材的收放卷室内设有放卷辊、第一导辊、第二导辊和收卷辊，从放卷辊出来的基材依次经过第一导辊、镀膜辊、第二导辊、收卷辊，磁控溅射镀膜室内设有磁控溅射镀膜系统，真空镀膜设备还包括用于镀防指纹膜的气态蒸发镀膜系统。本发明既能够实现连续镀防指纹膜，同时也能镀其他膜层，能够在同一真空镀膜设备上镀防指纹膜和其他膜层，极大地提高了生产效率，也减少了设备投入，节能降耗。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备。

背景技术

传统的镀防指纹膜的方法主要是喷涂法和真空蒸发镀膜法，喷涂法一般是在大气下完成，但是喷涂精度一般较低，膜层均匀性差，工艺也不稳定；真空蒸发镀膜法的效果好，但是只适合在单机设备上使用，没有办法实现连续沉积。对于连续镀膜设备，如流水线镀膜设备或者卷绕镀膜设备，难以实现在线连续镀防指纹膜。

发明内容

针对现有技术中存在的技术问题，本发明的目的是：提供一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备，能够实现连续镀防指纹膜，同时也能镀其他膜层。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备，包括真空室，真空室内设有镀膜辊以及沿着镀膜辊的圆周方向依次设置的收放卷室、磁控溅射镀膜室、第一隔气室、气态蒸发镀膜室、第二隔气室；用于卷绕基材的收放卷室内设有放卷辊、第一导辊、第二导辊和收卷辊，从放卷辊出来的基材依次经过第一导辊、镀膜辊、第二导辊、收卷辊，磁控溅射镀膜室内设有磁控溅射镀膜系统，真空镀膜设备还包括用于镀防指纹膜的气态蒸发镀膜系统。

进一步的，收放卷室和磁控溅射镀膜室之间、磁控溅射镀膜室和第一隔气室之间、第一隔气室和气态蒸发镀膜室之间、气态蒸发镀膜室和第二隔气室之间、第二隔气室和收放卷室之间均设置有隔气装置，隔气装置与镀膜辊之间留有供基材通过的间隙。

进一步的，磁控溅射镀膜系统包括磁控靶，磁控靶的溅射方向朝向基材。

进一步的，气态蒸发镀膜系统包括产生原料气体的气态蒸发源、向基材喷射原料气体的气体喷射装置，气态蒸发源位于真空室外，气体喷射装置位于气态蒸发镀膜室内，气态蒸发源通过流量控制装置向气体喷射装置传输原料气体。

进一步的，气态蒸发源包括液体罐，液体罐的底部设有液体罐加热子系统，液体罐的外部设有液体罐保温子系统；气体喷射装置包括喷射气管，喷射气管上设有多个喷射孔，喷射孔的喷射方向朝向基材；流量控制装置包括流量计，流量计通过连接气管连接到液体罐上，流量计通过引入气管连接到喷射气管上。

进一步的，喷射气管上还设有喷射气管加热子系统，喷射气管外部设有喷射气管保温隔热子系统。

进一步的，磁控溅射镀膜室的工作真空度为1*10^-1Pa-9*10^-1Pa。

进一步的，气态蒸发镀膜室的工作真空度为8*10^-2Pa-1*10^-3Pa。

进一步的，收放卷室、磁控溅射镀膜室、第一隔气室、气态蒸发镀膜室、第二隔气室上均设有抽真空系统和充气系统。

进一步的，磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶。

总的说来，本发明具有如下优点：

1、本发明通过放卷辊、第一导辊、镀膜辊、第二导辊和收卷辊的配合实现基材的卷绕镀膜，能够保证基材的稳定运行。