[发明专利]一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法在审
| 申请号: | 202011170361.2 | 申请日: | 2020-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN112310124A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
| 发明(设计)人: | 顺布乐;郝翠玉 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示 面板 显示装置 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述显示区包括第一金属层,所述非显示区包括:
基板层;
第一栅极层,设于所述基板层一侧的表面;
层间介电层,设于所述第一栅极层远离所述基板层一侧的表面;
第二金属层,设于所述层间介电层远离所述基板层一侧的表面,所述第二金属层由所述非显示区延伸至所述显示区,与所述第一金属层电性连接;
第二平坦层,设于所述第二金属层远离所述基板层一侧的表面。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括像素定义层,所述像素定义层设于所述第二平坦层远离所述基板层一侧的表面。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述基板层包括:
第一柔性层;
第一缓冲层,设于所述第一柔性层一侧的表面;
第二柔性层,设于所述第一缓冲层远离所述第一柔性层一侧的表面;
第二缓冲层,设于所述第二柔性层远离所述第一柔性层一侧的表面。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括:
第一绝缘层,设于所述基板层一侧的表面,所述第一栅极设于所述第一绝缘层远离所述基板层一侧的表面;
第二绝缘层,设于所述第一绝缘层远离所述柔性层一侧的表面。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括第一通孔,所述第一通孔设置于所述层间介电层上,所述第二金属层通过所述第一通孔贯穿所述层间介电层,延伸至所述第一栅极层表面。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二金属层表面和侧面形成一倾斜角度,所述第二金属层表面为所述第二金属层远离所述柔性层的一面。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区还包括阴极,所述阴极设于所述像素定义层远离所述柔性层一侧的表面。
8.根据权利要求1-7任一权利要求所述的显示面板,其特征在于,所述显示区还包括:第一平坦层和由非显示区延伸形成的基板层、层间介电层、第一栅极层、第二金属层以及第二平坦层;
所述层间介电层设于所述基板层一侧的表面;
所述第一栅极层设于所述层间介电层远离所述基板层一侧的表面;
所述第一金属层设于所述第一栅极层远离所述基板层一侧的表面;
所述第一平坦层设于所述第一金属层远离所述基板层一侧的表面;
所述第二金属层设于所述第一平坦层远离所述基板层一侧的表面;
所述第二平坦层设于所述第二金属层远离所述基板层一侧的表面。
9.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1-8任一权利要求所述的显示面板。
10.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供基板层;
在所述基板层一侧的表面制备第一栅极层;
在所述第一栅极层远离所述基板层一侧的表面制备层间介电层;
在所述层间介电层远离所述基板层一侧的表面制备第二金属层;
在所述第二金属层远离所述基板层一侧的表面制备第二平坦层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





