[发明专利]升降针机构及半导体工艺设备在审
| 申请号: | 202011158926.5 | 申请日: | 2020-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN112349648A | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | 陈景春;申爱科 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 施敬勃 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 升降 机构 半导体 工艺设备 | ||
本发明公开一种升降针机构及半导体工艺设备,该升降针机构适用于顶升位于静电卡盘上的待加工件。所述升降针机构包括连接本体、顶针、驱动组件和传动组件,所述连接本体的一端用于连接所述静电卡盘,所述连接本体的另一端与所述驱动组件的固定端连接;所述顶针可移动地穿设于所述静电卡盘内,所述传动组件设置于所述连接本体和所述静电卡盘内,且所述传动组件的一端与所述顶针相连,所述传动组件的另一端通过弹性件与所述驱动组件的输出端相连,所述驱动组件可驱动所述传动组件,以带动所述顶针移动。上述方案能够解决目前的升降针机构存在较大风险对晶圆造成损坏的问题。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种升降针机构及半导体工艺设备。
背景技术
在半导体晶圆的加工领域中,等离子体设备是利用等离子体实现对晶圆的刻蚀处理,在处理时,晶圆被吸附固定在卡盘上,在处理之后,通过设置于卡盘基座上的升降针机构,将晶圆顶升起来,进而与卡盘脱离,以便于通过机械手对晶圆进行转移。
目前,现有的升降针机构内部均为刚性连接,其在气缸初始运动时存在瞬动的风险,如此会导致其带动顶针以过大的速度、及过大的冲击力与晶圆接触而损坏晶圆。
发明内容
本发明公开一种升降针机构及半导体工艺设备,以解决目前的升降针机构存在较大风险对晶圆造成损坏的问题。
为了解决上述问题,本发明采用下述技术方案:
第一方面,本发明提供一种升降针机构,适用于顶升位于静电卡盘上的待加工件。所述升降针机构包括连接本体、顶针、驱动组件和传动组件,所述连接本体的一端用于连接所述静电卡盘,所述连接本体的另一端与所述驱动组件的固定端连接;
所述顶针可移动地穿设于所述静电卡盘内,所述传动组件设置于所述连接本体和所述静电卡盘内,且所述传动组件的一端与所述顶针相连,所述传动组件的另一端通过弹性件与所述驱动组件的输出端相连,所述驱动组件可驱动所述传动组件,以带动所述顶针移动。
第二方面,本发明提供一种半导体工艺设备,包括反应腔室、所述静电卡盘以及如前述的升降针机构,所述静电卡盘设置于所述反应腔室内,所述升降针机构与所述反应腔室连接,所述升降针机构通过驱动所述顶针顶升所述静电卡盘上的所述待加工件。
本发明采用的技术方案能够达到以下有益效果:
在本发明公开的升降针机构及半导体工艺设备中,传动组件的一端与顶针相连,而传动组件的另一端通过弹性件与驱动组件的输出端相连,如此设置下,在驱动组件驱动传动组件通过顶针顶升待加工件时,由于二者之间的弹性件能够被压缩而储存能量,因此能够避免驱动组件在初始运动时由于瞬动而造成待加工件的损坏。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本发明的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为本发明实施例公开的升降针机构在升针状态时的剖视结构示意图;
图2为图1的局部放大示意图;
图3为本发明实施例公开的升降针机构在降针状态时的剖视结构示意图;
图4为图3的局部放大示意图;
附图标记说明:
100-卡盘本体、110-移动通道、
200-卡盘基座、210-固定法兰、220-波纹管、
300-顶针、
400-驱动组件、410-连接件、411-导向空间、412-配合空间、
500-传动组件、510-传动轴、511-限位部、520-顶针支架、
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司,未经北京北方华创微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011158926.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





