[发明专利]一种电子束曝光机的上下料方法

说明书

本发明提供了一种电子束曝光机的上下料方法，其最大限度地挖掘出曝光机的产能，把电子束曝光机因上下料大气/真空转换时间均用在有效的曝光产出上，提高了曝光机的生产效率，降低了产品的成本。其包括上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体，工艺腔体为电子束曝光机对掩模版的曝光加工区域，所述上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体之间设置有隔离阀结构，所述上下料/真空转换腔体内布置有第一小腔体、第二小腔体，所述第一小腔体、第二小腔体为上下排列布置的独立腔体，所述第一小腔体、第二小腔体组合形成整体外壳结构，所述整体外壳结构的高度方向连接有伺服驱动装置。

技术领域

本发明涉及掩模制版的技术领域，具体为一种电子束曝光机的上下料方法。

背景技术

半导体集成电路制造工艺已经进入14-16纳米量产阶段，因此需要更先进的光刻技术刻出更细的线宽和更复杂的图案。光刻工艺中，需要用到一种模板来对图形进行转印和复制，这种模板称之为光掩模板(又称光罩，以下统称为掩模板)。掩模板是一条纽带连接设计公司和晶园制造，目前晶圆厂光刻工艺中还无法实现无掩模光刻，因此掩模板是集成电路制造中极为关键的一环。

掩模基板的主要制作流程为曝光、PEB、显影、烘烤、刻蚀、去胶、检测、贴膜等，掩模版制作最主要的工序就是曝光工序，一台曝光机的精度直接影响产品的等级。曝光机台价格十分昂贵，因此能够有效而充分的利用好曝光机的产能可以降低产品的生产成本。

发明内容

针对上述问题，本发明提供了一种电子束曝光机的上下料方法，其最大限度地挖掘出曝光机的产能，把电子束曝光机因上下料大气/真空转换时间均用在有效的曝光产出上，提高了曝光机的生产效率，降低了产品的成本。

一种电子束曝光机的上下料方法，其特征在于：其包括上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体，工艺腔体为电子束曝光机对掩模版的曝光加工区域，所述上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体之间设置有隔离阀结构，所述上下料/真空转换腔体内布置有第一小腔体、第二小腔体，所述第一小腔体、第二小腔体为上下排列布置的独立腔体，所述第一小腔体、第二小腔体组合形成整体外壳结构，所述整体外壳结构的高度方向连接有伺服驱动装置，所述伺服驱动装置驱动整体外壳结构上升或下降，使得第一小腔体、第二小腔体中的至少一个腔体的高度对位于工艺腔体的高度布置，所述括上下料大气/真空转换腔体的四周内壁上布置有独立的抽真空气管、氮气充气管，当第一小腔体所对应的掩模版曝光完成后，利用外部推拉杆把对应掩模版从工艺腔体拉回到第一小腔体中，然后通过伺服驱动装置快速将小腔体2升降到工艺腔体的高度，外部推拉杆把另一块未曝光的掩模版推进工艺腔体，然后关闭工艺腔体和上下料大气/真空转换腔体之间的隔离阀，上下料大气/真空转换腔体上的氮气充气管给上下料大气/真空转换腔体冲气，使之从真空状态返回到大气状态后，取出已经曝光好的第一小腔体内掩模版，再在第一小腔体中放置另一块未曝光的掩模版，之后上下料大气/真空转换腔体壁上抽真空气管开始抽真空；在上下料大气/真空转换腔体对掩模板进行大气/真空转换的过程中，工艺腔体对已经置于真空状态的掩模版进行曝光，从而节约曝光机等待抽真空时间。

其进一步特征在于：

小腔体在上下料过程中和推拉杆、工艺腔体在同一高度，小腔体的高度位置通过伺服驱动装置和对应的定位传感器准确快速控制；

所述整体外壳结构内上下排布的第一小腔体、第二小腔体分别独立承载对应的掩模夹具、且掩模夹具相对于小腔体的前后位置自由滑动，确保掩模版的顺利取放；

所述氮气充气管将上下料大气/真空转换腔体从真空返回大气状态的震动幅度在曝光的允许范围内；

第一次上料时同时放置两片掩模版夹具分别进入第一小腔体、第二小腔体；

电子束曝光机台在曝光过程中，上下料大气/真空转换腔体进行还原大气环境、取放掩模版、抽真空的操作。