[发明专利]一种气体阻隔层及其制备方法

权利要求书

1.一种气体阻隔层，其特征在于：所述气体阻隔层由单体A聚合而成，或由单体A和单体B聚合而成；

单体A为含有两个及以上乙烯性双键的烯烃类单体、含有乙烯性双键和氨基的烯烃类单体、含有乙烯性双键和羟基的烯烃类单体以及含有乙烯性双键和羧基的烯烃类单体中的一种或多种；

单体B为含有乙烯性双键和异氰酸酯基的烯烃类单体。

2.根据权利要求1所述的气体阻隔层，其特征在于：由单体A和单体B聚合时，单体A和单体B的摩尔比为1:10~10:1。

3.根据权利要求2所述的气体阻隔层，其特征在于：单体A和单体B的摩尔比为1:5~5:1。

4.根据权利要求1或2所述的气体阻隔层，其特征在于：单体A为两个及以上乙烯性双键的烯烃类单体或含有乙烯性双键和氨基的烯烃类单体。

5.根据权利要求1或2或3所述的气体阻隔层，其特征在于：在单体A和单体B聚合的基础上，还加入单体C，单体C为含有乙烯性双键和含氟侧链的烯烃类单体。

6.根据权利要求5所述的气体阻隔层，其特征在于：单体C的加入量为单体A和单体B总摩尔数的1~15%。

7.根据权利要求6所述的气体阻隔层，其特征在于：单体C的加入量为单体A和单体B总摩尔数的3-10%。

8.根据权利要求5所述的气体阻隔层，其特征在于：单体C为1H，1H，2H，2H-全氟辛基丙烯酸酯、丙烯酸六氟丁酯、1H，1H，2H，2H-全氟癸基丙烯酸酯。

9.根据权利要求1所述的气体阻隔层，其特征在于：所述气体阻隔层的制备方法如下：

步骤1：将基材置于反应腔的样品台上，样品台温度为10~50℃；

步骤2：反应腔真空度保持为200~800 mtorr，控制反应腔内加热丝至180~280℃；

步骤3：将气化的单体或单体的组合物与引发剂混合后通入反应腔，反应腔内反应时间为5min~120min；

步骤4：将真空退火处理，真空度＜0.1MPa，退火温度40~100℃，退火时间2~36h。

10.根据权利要求9所述的气体阻隔层，其特征在于：引发剂选自二叔丁基过氧化氢，二叔戊基过氧化氢，过氧化苯甲酸特丁酯或者全氟丁基磺酰氟中的一种或多种，单体或单体的组合物与引发剂的摩尔比例为1:1~ 5:1。