[发明专利]一种基于高光谱的叶片无损检测装置

权利要求书

1.一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：包括光源(1)、物镜或者透镜(2)、位移台(3)、滤波片(5)，聚焦透镜(6)、成像光谱仪(7),待测样品(4)放置在所述的位移台(3)上，光源(1)发出的光依次通过物镜或者透镜(2)、位移台(3)、待测样品(4),待测样品(4)辐射的光通过滤波片(5)，聚焦透镜(6)进入成像光谱仪(7)中。

2.根据权利要求1所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：光源(1)为宽谱光源或是激光器。

3.根据权利要求1所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：还包括驱动控制器(9)与位移台(3)相连驱动位移台(3)移动。

4.一种使用权利要求1所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置的检测方法，其特征在于按照如下步骤进行：1)将光谱带的个数*面阵相机横向像素点的个数*步进的步数的数据立方转变为(面阵相机横向像素点的个数*步进的步数的数据)*光谱带的个数二维矩阵；2)对所述的步骤1)中的二维矩阵进行主成分分析法分解；3)根据主成分分析法中的载荷矩阵判断判断异常组织的光谱形状，根据对应相应主成分的空间分布可以辅助判断异常组织的空间形状。

5.一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：包括光源(1)、位移台(3)、滤波片(5)，聚焦透镜(6)、成像光谱仪(7)；还包括二向色镜(10)、透镜(11)；所述的光源(1)位于成像光谱仪的侧面设置，发出的光束经过二向色镜(10)反射，然后经过透镜(11)聚焦到待测样品(4)上；待测样品(4)固定在位移台(3)上,通过控制位移台的移动对待测样品(4)扫描；待测样品(4)辐射的信号，依次经过透镜(11)，二向色镜(10)，滤波片(5)，聚焦透镜(6)，聚焦到成像光谱仪(7)中。

6.根据权利要求5所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：所述的光源为线光源(1)。

7.根据权利要求5所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置，其特征在于：通过调整成像光谱仪的位置保持样品上的线光源或者样品辐射的信号线与成像光谱仪的狭缝保持平行。

8.一种使用如权利要求5所述的一种基于高光谱的叶片无损检测装置的检测方法，其特征在于光谱带的个数*面阵相机横向像素点的个数*步进的步数的数据立方利用光谱信息散度算法对数据进行分析：1)对数据立方中的每个点的光谱，按其光谱最大值进行归一化；2)针对归一化后的数据立方，求每个点的光谱概率；3)将所有点的光谱概率相加，然后求各样本其光谱概率平均值，在所述的数据立方中，计算各样本每个点的光谱概率均值的光谱旋度值；4)针对数据立方中的一个具体的空间点比较各类样品的旋度值并标定；5)统计各标定元素的个数，计算其占矩阵比例，根据比例计算混合物中某一类样品的质量分数。

9.根据权利要求8所述的基于线光源激发的快速高通量高光谱检测装置的检测方法，其特征在于：所述的步骤(4)中的光谱旋度的计算公式为其中，SID(x||y)表示向量x,相对于量y的旋度值，pl,ql分别代表光谱向量x,y各自在波长λl处的光谱概率值。