[发明专利]一种移位饱和同步处理的方法及其应用

权利要求书

1.一种移位饱和同步处理的方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)移位MASK的产生：

移位后溢出位的选择信号产生，将移位溢出对应的位标记为1，其他位置标记为0；

(2)数据选择：

使用所述选择信号选择待移位的数据，如选择信号中某一位的MASK为1，则选取待移位的数据中的对应结果，反之则输出待移位数据的最高位；

(3)饱和检测：

检测步骤(2)所得所有结果和待移位的数据的最高位，如待移位的数据的最高位为0时步骤(2)所得所有结果全为0，或者待移位的数据的最高位为1时步骤(2)所得所有结果全为1，则移位无溢出，反之则移位溢出。

2.根据权利要求1所述的一种移位饱和同步处理的方法，其特征在于，所述待移位数据通过MASK筛选出溢出相关位，并将其他位使用最高位填充。

3.根据权利要求1所述的一种移位饱和同步处理的方法，其特征在于，步骤(3)中，检测待移位的数据的最高位为0时步骤(2)所得所有结果全为0，如果是说明无溢出，正饱和标志位为0，反之，则需要饱和处理，正饱和标志位置1。

4.根据权利要求1所述的一种移位饱和同步处理的方法，其特征在于，步骤(3)中，检测待移位的数据的最高位为1时步骤(2)所得所有结果全为1，如果是说明无溢出，负饱和标志位为0，反之，则需要饱和处理，负饱和标志位置1。

5.应用如权利要求1～4任一项所述的移位饱和同步处理的方法的集成电路，其特征在于，包括一个或多个处理器、一个或多个存储器、一个或多个程序及数据输入装置；

所述数据输入装置用于输入待移位数据及其所需移动的位数，所述一个或多个程序被存储在所述存储器中，当所述一个或多个程序被所述处理器执行时，使得所述集成电路执行如权利要求1～4任一项所述的移位饱和同步处理的方法。

6.应用如权利要求5所述的集成电路的电子设备。