[发明专利]基板处理系统和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理系统，其中，

该基板处理系统具有：

送入送出部，其用于送入送出收纳了多片基板的盒；

批量处理部，其成批地处理包含多片所述基板的批次；

单片处理部，其逐片处理所述批次的所述基板；以及

接口部，其在所述批量处理部和所述单片处理部之间交接所述基板，

所述送入送出部、所述单片处理部、所述接口部、所述批量处理部以所述送入送出部、所述单片处理部、所述接口部、所述批量处理部的顺序排列，

所述接口部包括：批次形成部，其用于形成所述批次；以及输送部，其将所述基板从所述单片处理部向所述批次形成部输送且将所述基板从所述批量处理部向所述单片处理部输送。

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，

所述输送部包括：第1输送机器人，其将所述基板从所述单片处理部向所述批次形成部输送；以及第2输送机器人，其将所述基板从所述批量处理部向所述单片处理部输送。

3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中，

所述第1输送机器人悬挂在所述接口部的顶部，

所述第2输送机器人设置在所述接口部的地面。

4.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中，

所述第1输送机器人设置在所述接口部的地面，

所述第2输送机器人悬挂在所述接口部的顶部。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部包括：处理槽，其贮存块状或雾状的处理液；第1保持器具，其将所述基板以第1间距保持；以及第2保持器具，其在所述处理液中从所述第1保持器具接收以第2间距排列的所述基板，所述第2间距为所述第1间距的N倍，N为2以上的自然数，

所述输送部将在所述处理液中被分开保持在所述第1保持器具和所述第2保持器具的所述基板从所述批量处理部向所述单片处理部输送。

6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部还包括在俯视时呈长方形的输送区域和在所述输送区域一边保持所述批次一边移动并旋转的输送装置，

在所述输送区域的短边的旁边配置有所述批次形成部，在所述输送区域的长边的旁边配置有所述处理槽，在所述批次形成部和所述处理槽这两者的旁边配置有所述输送部。

7.根据权利要求5所述的基板处理系统，其中，

所述处理槽贮存用于浸渍所述批次的纯水。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部包括贮存用于浸渍所述批次的稀氢氟酸的化学溶液槽。

9.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部包括贮存用于浸渍所述批次的磷酸水溶液的化学溶液槽。

10.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部包括贮存用于浸渍所述批次的SC1的化学溶液槽。

11.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述批量处理部包括贮存用于浸渍所述批次的SPM的化学溶液槽。

12.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述单片处理部包括利用液体逐片处理所述基板的液处理装置。

13.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理系统，其中，

所述单片处理部包括利用超临界流体逐片干燥所述基板的干燥装置。