[发明专利]一种均匀流场发生器的设计方法在审

专利信息
申请号: 202010965507.6 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112149248A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 方贤德;毕明华 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G06F30/17 分类号: G06F30/17;G06F30/18;G06F30/20;G06F30/28;G06F113/08;G06F119/08;G06F119/14
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 贺翔
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 均匀 发生器 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种均匀流场发生器的设计方法,其特征在于,包括:一次分配管和二次分配管,各一次分配管均配有若干个二次分配管,一次分配管截面变化按流量均匀分配设计方法设计,其壁面开设有若干个中心距相等、流通面积相等的一次分配孔,所述流量均匀分配设计方法为:

式中:Ai-为第i个孔上游的流道横截面积;Ai+为第i个孔下游的流道横截面积;i表示第i个孔;n为管总开孔数;对于单端流入L为分配管长,对于双端流入L为分配管长的二分之一;Di为第i个孔位置分配管的当量直径;Rei为第i个孔上游雷诺数;C为常数。

2.根据权利要求1所述的一种均匀流场发生器的设计方法,其特征在于,所述二次分配管为变截面,其截面变化按流量均匀分配设计方法设计,其壁面开设有若干个中心距相等、流通面积相等的二次分配孔,所述二次分配管截面变化设计的流量均匀分配设计方法与所述一次分配管截面变化的流量均匀分配设计方法相同。

3.根据权利要求1所述的一种均匀流场发生器的设计方法,其特征在于,所述二次分配管为等截面,其壁面开设的二次分配孔沿长度方向交错分布或一字分布,孔中心距相等,孔面积按下式定义的流量均匀分配设计方法设计:

式中:A1为第一个孔的面积,Ai为从上游到下游第i个孔的面积;l为二次分配管的长;Dc为二次分配管的当量直径;Ac为二次分配管的流通面积;m为二次分配管的二次分配孔数;μ为孔流量系数;ξi按式(3)计算,其中B用下式确定:

4.根据权利要求1所述的一种均匀流场发生器的设计方法,其特征在于,所述二次分配管为等截面,其壁面开设的二次分配孔流通面积相等,孔中心距按流量均匀分配设计方法设计;二次分配孔沿二次分配管长度方向交错分布或一字分布;所述的设计孔中心距的流量均匀分配设计方法为:

式中:Δxi为从上游到下游第i个孔与第i-1个孔之间的距离;A为二次分配孔的流通面积。

5.根据权利要求1所述的一种均匀流场发生器的设计方法,其特征在于,所述一次分配管、二次分配管的截面为连续性变化或阶梯型变化。

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