[发明专利]X射线测量装置的校正方法在审
| 申请号: | 202010946721.7 | 申请日: | 2020-09-10 |
| 公开(公告)号: | CN112556611A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
| 发明(设计)人: | 今正人;真家洋武;佐佐木诚治;宫仓常太 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
| 主分类号: | G01B15/04 | 分类号: | G01B15/04 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 射线 测量 装置 校正 方法 | ||
1.一种X射线测量装置的校正方法,所述X射线测量装置使用X射线对被测定物进行三维形状测量,所述X射线测量装置的校正方法的特征在于,
所述X射线测量装置具备:X射线源,其产生所述X射线;旋转台,其将所述被测定物以能够旋转的方式载置;以及X射线图像检测器,其对透过了所述被测定物的所述X射线进行检测,
所述X射线测量装置的校正方法包括:
载置工序,将校正治具载置于所述旋转台,所述校正治具用于将能够根据投影于所述X射线图像检测器的投影像确定的形状的基准物体以特定的相对位置间隔配置于N个部位,其中,N≥4;
移动位置获取工序,在处于N个部位的所述基准物体中的两个该基准物体中,使另一个基准物体的位置相对于一个基准物体的位置以不改变所述特定的相对位置间隔的方式平行移动,向所述校正治具照射所述X射线,并从所述X射线图像检测器的输出中获取所述另一个基准物体的投影像与所述一个基准物体的投影像的相关度最大的移动位置;
相对位置计算工序,对其余的所述基准物体进行所述移动位置获取工序,以使处于N个部位的全部的所述基准物体彼此通过所述移动位置建立关联,根据各个所述移动位置计算所述特定的相对位置间隔;
特征位置计算工序,向所述校正治具照射所述X射线,并根据所述X射线图像检测器的输出来确定处于N个部位的所述基准物体各自的投影像的特征点的位置;
变换矩阵计算工序,根据处于N个部位的所述基准物体各自的投影像的特征点的位置和所述特定的相对位置间隔来计算用于进行所述基准物体的向所述X射线图像检测器的检测面的投影变换的变换矩阵;
旋转检测工序,使所述旋转台以规定角度旋转两次以上,重复进行从所述特征位置计算工序至所述变换矩阵计算工序的工序;
位置计算工序,基于所述变换矩阵来计算每旋转所述规定角度时的所述基准物体的绝对位置;以及
中心位置计算工序,根据通过所述旋转台的旋转产生的所述基准物体的绝对位置的变化,来计算所述旋转台的旋转中心位置。
2.根据权利要求1所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
在所述移动位置获取工序中,计算所述另一个基准物体的投影像的特征点的位置相对于所述一个基准物体的投影像的特征点的位置的差位置,基于该差位置来进行处于N个部位的所述基准物体的平行移动。
3.根据权利要求2所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
在所述一个基准物体的投影像与所述另一个基准物体的投影像的所述相关度最大的情况下,所述差位置的大小为规定值以下。
4.根据权利要求1所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
使所述旋转台以特定的角度旋转多次,重复进行从所述移动位置获取工序至所述相对位置计算工序的工序,
计算重复进行工序所得到的多次的所述特定的相对位置间隔的平均,或者将接下来重复进行工序时的所述平行移动的前后的位置与紧挨在之前计算出的所述特定的相对位置间隔进行对应。
5.根据权利要求1所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
在所述校正治具中,在将全部的所述基准物体仅载置于一个平面上的情况下,将所述变换矩阵设为投影变换矩阵,在三维地载置所述基准物体的情况下,将该变换矩阵设为投影矩阵。
6.根据权利要求1所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
在所述中心位置计算工序中,还计算所述旋转台的旋转轴。
7.根据权利要求1所述的X射线测量装置的校正方法,其特征在于,
在所述位置计算工序中,假定不是所述旋转台进行了旋转而是所述X射线源和所述X射线图像检测器进行了旋转,基于所述变换矩阵来计算每旋转所述规定角度时的所述X射线源的绝对位置,对该X射线源的绝对位置进行坐标变换,由此计算所述基准物体的绝对位置。
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