[发明专利]氧化铈传感器及其制备方法在审
| 申请号: | 202010840827.9 | 申请日: | 2020-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN112505097A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
| 发明(设计)人: | 杨爱军;马雄华;钟艳花 | 申请(专利权)人: | 江门市阳邦智能科技有限公司 |
| 主分类号: | G01N27/00 | 分类号: | G01N27/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 529000 广东省江门市蓬江区潮连大道6号(*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氧化 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种氧化铈传感器,其特征在于,包括:传感器基底,包括衬底和设置在衬底上的四个叉指电极组,四个所述叉指电极组呈2*2矩阵排列在所述衬底上,每个所述叉指电极组包括四个叉指电极;
纳米气敏薄膜,用于实现所述叉指电极之间的电连接,包括分别附着在所述四个叉指电极组表面的金-氧化铈纳米气敏薄膜、银-氧化铈纳米气敏薄膜、铂-氧化铈纳米气敏薄膜和钯-氧化铈纳米气敏薄膜,所述金-氧化铈纳米气敏薄膜、所述银-氧化铈纳米气敏薄膜、所述铂-氧化铈纳米气敏薄膜和所述钯-氧化铈纳米气敏薄膜分别为掺杂有金、银、铂、钯四种贵金属颗粒的氧化铈纳米气敏材料。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铈传感器,其特征在于,所述金-氧化铈纳米气敏薄膜、所述银-氧化铈纳米气敏薄膜、所述铂-氧化铈纳米气敏薄膜和所述钯-氧化铈纳米气敏薄膜的厚度为100nm-1um。
3.根据权利要求1所述的一种氧化铈传感器,其特征在于,所述衬底采用单晶硅、氮化硅或者氧化铝陶瓷作为制备材料。
4.根据权利要求1所述的一种氧化铈传感器,其特征在于,所述叉指电极采用铬-金或者铬-铂作为导电材料,其中铬的厚度为50~100nm,金或者铂的厚度为100~300nm。
5.根据权利要求1所述的一种氧化铈传感器,其特征在于,所述叉指电极的宽度为5~20um,相邻两个所述叉指电极的间距为5~20um。
6.一种氧化铈传感器制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
传感器基底加工:通过光刻、磁控溅射工艺在衬底上加工出电极图案,所述电极图案包括四个呈2*2矩阵排列在所述衬底上的叉指电极组,每个所述叉指电极组包括四个叉指电极;
气敏材料的制备:采用水热化学合成法制备氧化铈纳米气敏材料,并利用液相还原法将金、银、铂、钯四种贵金属颗粒分别掺杂到CeO2中,形成金-氧化铈纳米气敏材料、银-氧化铈纳米气敏材料、铂-氧化铈纳米气敏材料和钯-氧化铈纳米气敏材料;
传感器组装:将所述金-氧化铈纳米气敏材料、所述银-氧化铈纳米气敏材料、所述铂-氧化铈纳米气敏材料和所述钯-氧化铈纳米气敏材料分别与乙醇相混溶成胶体态,四种胶体态分别滴涂在四个所述叉指电极组表面,以形成金-氧化铈纳米气敏薄膜、银-氧化铈纳米气敏薄膜、铂-氧化铈纳米气敏薄膜和钯-氧化铈纳米气敏薄膜。
7.根据权利要求6所述的一种氧化铈传感器制备方法,其特征在于,所述金-氧化铈纳米气敏薄膜、所述银-氧化铈纳米气敏薄膜、所述铂-氧化铈纳米气敏薄膜和所述钯-氧化铈纳米气敏薄膜的厚度为100nm-1um。
8.根据权利要求6所述的一种氧化铈传感器制备方法,其特征在于,所述衬底采用单晶硅、氮化硅或者氧化铝陶瓷作为制备材料。
9.根据权利要求6所述的一种氧化铈传感器制备方法,其特征在于,所述叉指电极采用铬-金或者铬-铂作为导电材料,其中铬的厚度为50~100nm,金或者铂的厚度为100~300nm。
10.根据权利要求6所述的一种氧化铈传感器制备方法,其特征在于,所述叉指电极的宽度为5~20um,相邻两个所述叉指电极的间距为5~20um。
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