[发明专利]生成集成电路布局图的方法

权利要求书

1.一种生成集成电路布局图的方法，其特征在于，该方法包括：

在一单元区域中，布局第一导电特征布局图案，其中所述第一导电特征布局图案在一第一方向上延伸，且该单元区域具有在与该第一方向不同的一第二方向上延伸的相对一第一单元边界及一第二单元边界；

在该单元区域中，布局第二导电特征布局图案，其中所述第二导电特征布局图案在该第一方向上延伸，且在该第二方向上，交替地布局所述第一导电特征布局图案及所述第二导电特征布局图案；

在该单元区域的该第一单元边界上及所述第一导电特征布局图案的端部上，布局多个第一切割特征布局图案，其中所述第一切割特征布局图案中的一个第一切割特征布局图案在该第一方向上，偏移了所述第一切割特征布局图案中的另一个第一切割特征布局图案；及

生成包括所述第一导电特征布局图案、所述第二导电特征布局图案以及所述第一切割特征布局图案的集成电路布局图。