[发明专利]ZnMgGaO紫外探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010800925.X 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN111785795A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 刘可为;侯其超;申德振;陈星;张振中;李炳辉 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L31/0328 分类号: H01L31/0328;H01L31/108;H01L31/18;H01L21/02
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: znmggao 紫外 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种ZnMgGaO紫外探测器,其特征在于,包括从下至上依次叠加的衬底、ZnMgGaO薄膜和叉指电极。

2.如权利要求1所述的ZnMgGaO紫外探测器,其特征在于,所述ZnMgGaO薄膜为尖晶石结构。

3.如权利要求2所述的ZnMgGaO紫外探测器,其特征在于,所述ZnMgGaO薄膜的吸收截止边为220~280nm,所述ZnMgGaO紫外探测器的光响应截止边为220~270nm。

4.一种如权利要求1~3中任一项所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、以有机锌化合物作为锌源,以有机镁化合物作为镁源,有机镓化合物作为镓源,以高纯氧气为氧源,利用金属有机化合物化学气相沉积法在衬底的表面生长ZnMgGaO薄膜;

S2、在所述ZnMgGaO薄膜上使用负胶光刻形成叉指电极掩膜,在所述叉指电极掩膜溅射金属后将所述叉指电极掩膜去除,形成叉指电极;

S3、在所述叉指电极上按压In粒,得到MSM结构的ZnMgGaO紫外探测器。

5.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述高纯氧气的流速为500~800sccm。

6.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,所述有机锌化合物为二甲基锌或二乙基锌;有机镁化合物为二甲基二茂镁和/或二乙基二茂镁;所述有机镓化合物为三甲基镓和/或三乙基镓。

7.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述有机锌化合物以高纯氮气为载气,所述载气流速为5~20sccm;所述有机镁化合物以高纯氮气为载气,其载气流速为5~20sccm;所述有机镓化合物以高纯氮气为载气,其载气流速为10~40sccm。

8.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,在所述步骤S2中,溅射电流为5~8mA。

9.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,在所述步骤S2中,采用超声波去除所述叉指电极掩膜,超声时间为3~5min。

10.如权利要求4所述的ZnMgGaO紫外探测器的制备方法,其特征在于,在步骤S1之后还包括二次退火步骤,具体如下:

A、第一次退火:将所述ZnMgGaO薄膜移入退火炉,使用氮气气氛,氮气流量为0.6~1.0sccm,以0.2~0.4℃/s的升温速率将所述退火炉的炉温升至700~800℃,经3~5min后,将所述ZnMgGaO薄膜移出所述退火炉;

B、第二次退火:将所述退火炉的炉温降至500~600℃,再将所述ZnMgGaO薄膜移入所述退火炉,经15~20min后,将所述ZnMgGaO薄膜移出所述退火炉。

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