[发明专利]光学单元

权利要求书

1.一种光学单元，其特征在于，具备：

基板，所述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件；

反射部，所述反射部使所述入射光束从自外部的入射方向向朝向所述拍摄元件的反射方向反射；

基板摆动机构，所述基板摆动机构具有成对的第一磁体和第一线圈，且以沿着所述反射方向的滚动轴为基准使所述基板摆动；以及

反射部摆动机构，所述反射部摆动机构具有成对的第二磁体和第二线圈，且以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使所述反射部摆动，

在从所述反射方向观察时，所述第一磁体和所述第一线圈构成的对以所述滚动轴为基准设置在两侧，

所述第一磁体和所述第一线圈中的一方相对于所述基板的设有所述拍摄元件的一侧位于所述基板的相反侧，且以所述滚动轴为基准设置在两侧，所述第一磁体和所述线圈中的另一方设置在与所述一方相对的位置，

通过使电流流过所述第一线圈，经由所述第一磁体使具有所述拍摄元件的所述基板在从所述反射方向观察时以所述滚动轴为基准摆动，对所述入射光束相对于所述拍摄元件在旋转方向上的偏离进行修正。

2.根据权利要求1所述的光学单元，其特征在于，

所述反射部摆动机构以偏转轴及俯仰轴双方为基准使所述反射部摆动。

3.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，

作为所述反射部摆动机构，在从所述入射方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。

4.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，

作为所述反射部摆动机构，在从俯仰轴方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。

5.根据权利要求4所述的光学单元，其特征在于，

作为所述反射部摆动机构，从所述入射方向观察时在所述俯仰轴方向上的所述反射部的两侧具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。

6.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，

所述反射部摆动机构具有成对的所述第二磁体和所述第二线圈，所述第二磁体固定于所述反射部，所述第二线圈在所述反射部的周围固定于与所述第二磁体对置的位置。

7.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，

在所述基板和所述反射部之间具备透镜单元，

所述透镜单元固定于所述基板上。