[发明专利]镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层及其制备方法

权利要求书

1.镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，包括步骤如下：

步骤一：镁合金工件前处理，去除镁合金工件表面的油污和氧化层，使金属材料表面光洁、干净；

步骤二：将羰基铁粉加入纯水中，超声处理，得到羰基铁粉悬浮液；

步骤三：向步骤二得到的羰基铁粉悬浮液中加入氢氧化钠和硅酸钠，得到羰基铁粉在氢氧化钠硅酸钠混合水溶液中的悬浮液；

步骤四：将步骤三得到的悬浮液作为镁合金微弧氧化电解液，加入电解槽中，将步骤一得到的镁合金工件作为阳极，进行微弧氧化处理，得到包含羰基铁粉的镁合金微弧氧化涂层。

2.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤一所述镁合金工件前处理具体为：

a.打磨：分别采用320#、800#、1000#、1500#砂纸对镁合金工件进行打磨；

b.脱脂：将镁合金工件置于丙酮溶液中超声处理10～30分钟；

c.乙醇浸泡：将经过脱脂处理的镁合金工件在乙醇中浸泡10～30分钟，冷风吹干备用。

3.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤二中所述羰基铁粉的粒度为100～1000nm。

4.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤二中所述超声处理时的超声功率为100～500W，超声时间为1～3小时。

5.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤二中所述羰基铁粉悬浮液的浓度为0.1～1.0g/L。

6.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤三中氢氧化钠和硅酸钠的加入量为：每升悬浮液中加入5～20g的氢氧化钠、10～50g的硅酸钠。

7.根据权利要求1所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤四中在电压300～550V，时间300～1800s，温度10～30℃的条件下进行微弧氧化处理。

8.根据权利要求1至7任一项所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法，其特征在于，步骤一中所述镁合金为AZ91镁合金。

9.由权利要求1至8任一项所述的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层的制备方法制得的镁合金微弧氧化高效电磁屏蔽涂层。