[发明专利]一种镀铜石墨膜的制备方法

权利要求书

1.一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：

石墨膜-印刷-活化-水洗-予浸-水洗-镀铜-水洗-防氧化-水洗-吸干-风干，

所述印刷操作采用导电油墨，所述导电油墨中的填料为金、银、铜、镍、炭黑、石墨或碳纤维中的一种，所述导电油墨的厚度为2~6μm。

2.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述石墨膜的厚度为12~40μm。

3.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述导电油墨采用银浆导电油墨。

4.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述活化步骤中活化温度为25~45℃，时间为30~70s，所采用的活化液中铜离子的浓度为8～22g/L，铁离子的浓度8.5g/L，硫酸浓度为1～5.5wt%。

5.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述予浸操作在1～5.5wt%的硫酸溶液中进行，予浸时间为10~100s。

6.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述镀铜操作采用的镀液中铜离子浓度22g/L，硫酸浓度为60～160g/L，光剂浓度为1～3ml/L，整平剂浓度为5～10mL/L，电流密度为2～5ASD。

7.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述镀铜的速度为0.5～3m/min，镀铜厚度为1μm～20μm。

8.根据权利要求7所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述镀铜厚度为4～10μm。

9.根据权利要求1所述的一种镀铜石墨膜的制备方法，其特征在于：所述防氧化操作中的抗氧剂选用苯并三氮唑类抗氧剂，其质量分数为2～5.5wt%。