[发明专利]透明导电电极及其制备方法、调光膜、触控屏

权利要求书

1.一种透明导电电极，其特征在于，包括：

工作电极，所述工作电极由纳米金属线、或纳米金属棒、或纳米金属膜构成，所述工作电极位于走线区的结构上具有露出所述工作电极的剖面的搭接槽，所述搭接槽的深度不小于所述工作电极的厚度的三分之二，或所述搭接槽沿厚度方向贯穿所述工作电极；

电连接件，位于所述搭接槽处，所述电连接件为固化的导电浆料；

电极引线，通过所述电连接件与相应的工作电极电性连接。

2.根据权利要求1所述的透明导电电极，其特征在于，所述纳米金属线为直径5nm～100nm、长度介于15μm～25μm的纳米银线。

3.根据权利要求1所述的透明导电电极，其特征在于，所述搭接槽为一个槽，或所述搭接槽包括几个独立的子槽。

4.根据权利要求1所述的透明导电电极，其特征在于，所述电极引线为漆包线，所述漆包线包括金属线向外暴露的搭接部，所述搭接部与所述工作电极电性连接；

或，所述电极引线为由丝网印刷或喷墨打印导电浆料固化形成的电极线；

或，所述电极引线为由银浆等导电浆料涂布成导电膜再蚀刻形成的电极线。

5.根据权利要求1所述的透明导电电极，其特征在于，所述透明导电电极还包括透明的基板，所述基板包括可视区、位于所述可视区周围的走线区，所述工作电极位于所述基板上；

或，所述透明导电电极还包括基板、位于所述基板上的分离层，所述工作电极位于所述分离层背离所述基板的一侧；

或，所述透明导电电极还包括基板、位于所述基板上的分离层、位于所述分离层背离所述基板的一侧的树脂层，所述工作电极位于所述树脂层背离所述分离层的一侧。

6.一种透明导电电极的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1形成工作电极，所述工作电极由纳米金属线、或纳米金属棒、或纳米金属膜构成；

S2在所述工作电极位于走线区的结构上开设搭接槽露出所述工作电极的剖面，所述搭接槽的深度不小于所述工作电极的厚度的三分之二，或所述搭接槽沿厚度方向贯穿所述工作电极；

S3向所述搭接槽内填充导电浆料，固化所述导电浆料形成电连接件；

S4布设电极引线，所述电极引线通过所述电连接件与对应的工作电极电性连接。

7.根据权利要求6所述的透明导电电极的制备方法，其特征在于，

所述纳米金属线为直径5nm～100nm、长度介于15μm～25μm的纳米银线。

8.根据权利要求6所述的透明导电电极的制备方法，其特征在于，形成所述搭接槽过程中温度不高于300℃。

9.根据权利要求8所述的透明导电电极的制备方法，其特征在于，形成所述搭接槽的方法包括机械性破坏、超声波、等离子体剥蚀、冲击波、预留孔、化学蚀刻，所述机械性破坏包括划伤、撕裂、刮、钻、切、磨、振动。

10.根据权利要求6所述的透明导电电极的制备方法，其特征在于，所述电极引线为漆包线，所述漆包线包括金属线向外暴露的搭接部，所述搭接部与所述电连接件电性连接；

或，所述电极引线由导电浆料固化形成，所述电极引线与所述电连接件电性连接。

11.根据权利要求6所述的透明导电电极的制备方法，其特征在于，在基板上形成所述工作电极；

或，先在基板上依次形成分离层，然后在所述分离层上形成所述工作电极；

或，先在基板上依次形成分离层、树脂层，然后在所述树脂层上形成所述工作电极。

12.一种调光膜，包括两层透明导电电极、位于两层透明导电电极之间的PDLC膜；其特征在于，所述两层透明导电电极中的至少一个为权利要求1～5中任意一项所述的透明导电电极。

13.一种触控屏，包括第一触控电极、第二触控电极，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的至少一个为权利要求1～5中任意一项所述的透明导电电极。