[发明专利]一种基于结构单元形状差异的物理型信息隐藏结构及其制备方法

权利要求书

1.一种基于结构单元形状差异的物理型信息隐藏结构，其特征在于，包括从下到上层叠设置的衬底和金属反射层，所述金属反射层上设有若干结构单元，所述结构单元由隐藏信息单元、邻近单元和伪装单元组成；所述结构单元的结构包括设置在金属反射层上的介质层和覆盖所述介质层上表面的金属颗粒半连续膜；每一个所述结构单元设有一个沿垂直于金属反射层的方向贯穿介质层和金属颗粒半连续膜的孔洞；任意两个相邻的结构单元的孔洞的中心的距离小于400nm；所述隐藏信息单元和邻近单元的介质层的孔洞形状不同；

所述介质层为显影之后的电子胶；

所述隐藏信息单元是指带隐藏信息的结构单元；邻近单元是指不带隐藏信息的结构单元，且在结构制备完成后，与隐藏信息单元的颜色相同；

定义所述孔洞的体积与所述孔洞所属结构单元的介质层和孔洞的体积之和的比值为特征占空比；所述隐藏信息单元与邻近单元的特征占空比之差的绝对值小于等于0.5％。

2.根据权利要求1所述的物理型信息隐藏结构，其特征在于，所述结构单元还包括用于形成伪装信息的伪装单元，所述伪装单元与隐藏信息单元的特征占空比之差的绝对值大于1％。

3.根据权利要求1所述的物理型信息隐藏结构，其特征在于，所述衬底为硅片或玻璃片。

4.根据权利要求1所述的物理型信息隐藏结构，其特征在于，所述金属反射层由铝或银制备得到。

5.根据权利要求1所述的物理型信息隐藏结构，其特征在于，所述金属反射层的厚度大于40nm。

6.根据权利要求1所述的物理型信息隐藏结构，其特征在于，所述金属颗粒半连续膜由铝、银、金或镍制备得到。

7.权利要求1～6任一项所述物理型信息隐藏结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.清洗衬底；

S2.制备金属反射层：在衬底上通过热蒸发设备、电子束蒸发设备或溅射仪制备金属反射层；

S3.旋涂电子束胶：在金属反射层上旋涂电子束胶；

S4.制作版图：利用制图软件制作出带有需要隐藏信息的用于电子束刻蚀的版图；

S5.电子束刻蚀与显影：通过电子束刻蚀设备，在旋涂了电子束胶的金属反射层上曝光出步骤S4的版图的图案，然后通过显影剂进行显影，得到显影后的基片；

S6.溅射金属颗粒半连续膜：在显影后的基片表面溅射金属颗粒半连续膜，得到所述物理型信息隐藏结构。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，步骤S6中溅射的电流为3～150mA，时间为20～350s。

9.权利要求1～6任一项所述物理型信息隐藏结构的隐藏信息提取方法，其特征在于，先利用大于90℃的热源对所述物理型信息隐藏结构进行加热，加热时间大于1s，再利用窄带光源或单色光源照射所述物理型信息隐藏结构，提取出隐藏信息；所述窄带光源的带宽小于等于60nm；

所述单色光源的波长在带有隐藏信息的结构单元的反射谱波谷波长附近±80nm之内；所述窄带光源的波长在带有隐藏信息的结构单元的反射谱波谷波长附近±80nm之内。