[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

像素定义层，设于所述衬底基板上，具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；

水汽阻挡层，图案化设置于所述像素定义层的表面；以及

发光层，具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述水汽阻挡层的材质无机材料，所述无机材料包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述衬底基板包括：

源漏极层；

平坦层，设于所述源漏极层上；

过孔，从所述平坦层贯穿至所述源漏极层表面；以及

阳极，填充所述过孔，延伸至部分所述平坦层的表面。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

相邻的两个像素单元与所述阳极的上表面形成所述凹槽。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底基板；

形成一像素定义层于所述衬底基板上，所述像素定义层具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；

形成一水汽阻挡层，所述水汽阻挡层图案化设置于所述像素定义层的表面；

形成一发光层，所述发光层具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述形成一水汽阻挡层的步骤中，在所述像素定义层及所述衬底基板上表面形成所述水汽阻挡层，并采用干刻蚀的方式对所述水汽阻挡层进行图案化处理，使得所述水汽阻挡层贴附于所述像素单元的表面。

8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述形成一像素定义层于所述衬底基板上的步骤中，在所述衬底基板上表面形成所述像素定义层，并对所述像素定义层进行蚀刻处理，形成多个间隔排列的像素单元；

所述形成一发光层的步骤中，在所述凹槽内蒸镀有机材料形成所述发光单元。

9.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米；和/或

所述水汽阻挡层的材质包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

10.一种显示装置，包括如权利要求1-5任一项所述的显示面板。