[发明专利]一种OLED显示装置及制作方法

说明书

本发明公布一种OLED显示装置及制作方法，其中包括一个画素区域的制作方法：在基板上沉积有源层材料，在基板上形成有源层，蚀刻有源层得到触控电极区和有源区，将触控电极区进行导体化，形成透明的触控电极，有源区上的两侧作为源漏极接触区；制作第一绝缘层；制作栅极；制作第二绝缘层；在源漏极接触区及触控电极区域的第二绝缘层上分别制作过孔；制作源极、漏极和触控引线；制作显示器件层。上述技术方案将有源层导体化后复用作触控电极，将源漏极金属复用触控引线，使得触控电极的性能较为稳定，制程工艺也相对简单。

技术领域

本发明涉及OLED技术领域，尤其涉及一种OLED显示装置及制作方法。

背景技术

有机发光二极管显示具有轻薄，色域度广，可视角大，亮度高及可绕性等众多优点，逐渐成为继液晶显示器后的主流显示技术。透明显示可用于商业广告展示，智能穿衣镜，银行柜台与客户互动等多种场景，受到越来越多的关注。现有OLED触控显示多以外挂为主，在OLED显示面板上贴合触控传感器，使OLED显示器厚度增加，弯折性能差且工艺复杂，成本较高。TIC结构OLED触控显示多以图案化的阴极复用为触控电极，存在信号干扰，且受OLED蒸镀精度影响制作阴极图案化制程较为困难。

发明内容

为此，需要提供一种OLED显示装置及制作方法，解决OLED以阴极复用为触控电极，导致性能较差的问题。

为实现上述目的，发明人提供了一种OLED显示装置制作方法，包括一个画素区域的制作方法：

在基板上沉积有源层材料，在基板上形成有源层，蚀刻有源层得到触控电极区和有源区，将触控电极区进行导体化，形成透明的触控电极，有源区上的两侧作为源漏极接触区；

在有源区和触控电极上制作第一绝缘层；

在有源区区域的第一绝缘层上制作栅极；

在栅极和第一绝缘层上制作第二绝缘层；

在源漏极接触区及触控电极区域的第二绝缘层上分别制作过孔，过孔贯穿第二绝缘层和第一绝缘层，过孔的底部分别为触控电极表面和源漏极接触区表面；

在第二绝缘层上制作源极、漏极和触控引线，源极和漏极分别通过第二绝缘层位于源漏极接触区上的过孔与有源层连接，触控引线通过第二绝缘层位于触控电极上的过孔与触控电极连接；

在第二绝缘层、源极、漏极和触控引线上制作显示器件层。

进一步地，在基板上沉积有源层材料，在基板上形成有源层，蚀刻有源层得到触控电极区和有源区，将触控电极区进行导体化，形成透明的触控电极，有源区上的两侧作为源漏极接触区时，还包括如下步骤：

在有源层上涂布光阻，利用半灰阶掩模板对光阻进行曝光和显影，部分显影区对应触控电极区，显影后保留触控电极区上的光阻的上部分与有源区上的光阻，去除非触控电极区和非有源区上的光阻，然后以光阻为掩膜蚀刻去除非触控电极区和非有源区上的有源层；

去除触控电极区上的光阻的下部分；

将触控电极区进行导体化，形成透明的触控电极；

去除有源区上的光阻。

进一步地，在基板上沉积有源层材料，在基板上形成有源层，蚀刻有源层得到触控电极区和有源区，将触控电极区进行导体化，形成透明的触控电极，有源区上的两侧作为源漏极接触区时，还包括如下步骤：

在有源层上涂布光阻，利用半灰阶掩模板对光阻进行曝光和显影，半显影区对应触控电极区与有源区上的源漏极接触区，显影后保留触控电极区与源漏极接触区上的光阻的上部分，保留有源区上的光阻，去除非触控电极区和非有源区上的光阻，然后以光阻为掩膜蚀刻去除非触控电极区和非有源区上的有源层；

去除触控电极区与源漏极接触区上的光阻的下部分；