[发明专利]超声设备及超声成像系统的扫查控制方法及相关组件有效

专利信息
申请号: 202010475619.3 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111603197B 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 朱建武;莫寿农;刘德清 申请(专利权)人: 深圳开立生物医疗科技股份有限公司
主分类号: A61B8/00 分类号: A61B8/00
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 夏欢
地址: 518054 广东省深圳市南山区粤海街道麻岭社区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 超声 设备 成像 系统 控制 方法 相关 组件
【说明书】:

本申请公开了一种超声成像系统的扫查控制方法,应用于基于360°环阵探头的超声成像系统的扫查控制系统中,包括:在进行任意一次扫查的控制时,计算出该次扫查所使用的各个阵元编号计算值;当计算出的各个阵元编号计算值存在一个或多个超出预设的阵元编号范围时,将超出阵元编号范围的阵元编号计算值用同等数量的临近阵元的阵元编号进行替换,以使本次扫查所利用的阵元数量与计算出的阵元数量一致;在完成了各个阵元编号计算值的替换之后,基于各个阵元编号计算值启用对应的通道。应用本申请的方案,避免了边界处图像效果较差的情况。本申请还提供了一种超声设备及超声成像系统的扫查控制相关组件,具有相应效果。

技术领域

发明涉及超声技术领域,特别是涉及一种超声设备及超声成像系统的扫查控制方法及相关组件。

背景技术

目前的超声成像系统中,超声探头的定义会存在第一阵元和最后一个阵元,也就是存在边界的概念。当成像区覆盖整个图像区时,在一帧图像所需要的很多次的发射中,一般前几次发射或最后几次发射计算出来的发射和接收孔径,便会出现部分阵元越界的情况,例如图1中的TX1。

由于越界阵元在物理意义上是不存在的,因此计算时会忽略,这样就会导致发射/接收的孔径低于实际的孔径,从而导致靠近边界的图像效果会明显比中间部分的孔径完备的图像效果要差,例如图1中的TxK是中间发射的,发射孔径等于实际所需要的孔径,因此图像效果比Tx1要好。同理,图1中的右边界也存在同样的问题。对于环阵探头来说也是同理,依旧存在着边界问题,例如图2中,第一阵元和最后一个阵元是紧挨着的,这样在实际应用的时候,计算出来的孔径会越过边界,假设某一次计算出来的发射孔径为4,在传统的方案中,便只有1和2有效,或者只有EleNum-1和EleNum有效。

如果是在二维成像模式下,采用平滑+空间复合的解决方案,可以解决一定程度上的边界问题,但是在血流成像,弹性成像,造影成像,当选择的ROI(region of interest,感兴趣区域)跨过图像两边的时候,边界处的图像效果就会较差,影响临床的使用及诊断。

综上所述,如何有效地避免边界处的图像效果较差的情况,是目前本领域技术人员急需解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种超声设备及超声成像系统的扫查控制方法及相关组件,以有效地避免边界处的图像效果较差的情况。

为解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:

一种超声成像系统的扫查控制方法,应用于基于360°环阵探头的超声成像系统的扫查控制系统中,包括:

在进行任意一次扫查的控制时,计算出该次扫查所使用的各个阵元编号计算值;

当计算出的各个所述阵元编号计算值存在一个或多个超出预设的阵元编号范围时,将超出所述阵元编号范围的阵元编号计算值用同等数量的临近阵元的阵元编号进行替换,以使本次扫查所利用的阵元数量与计算出的阵元数量一致;

在完成了各个阵元编号计算值的替换之后,基于各个阵元编号计算值启用对应的通道;

其中,所述360°环阵探头中的各个阵元的编号互不相同,进行任意一次扫查的控制包括进行任意一次发射的控制或者进行任意一次接收的控制。

优选的,所述在进行任意一次扫查的控制时,计算出该次扫查所使用的各个阵元编号计算值,包括:

在进行任意一次扫查的控制时,通过计算出该次扫查所使用的预估阵元数量Aper;

基于计算出的该次扫查所使用的预估阵元数量Aper以及该次扫查线所对应的阵元位置TxLinetoElement,计算出该次扫查所使用的各个阵元编号计算值;

其中,TxFocusdepth表示该次扫查的焦点深度,Fnumber表示该次扫查的设定焦束值,pitch表示阵元间距,round表示四舍五入取整。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳开立生物医疗科技股份有限公司,未经深圳开立生物医疗科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010475619.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top