[发明专利]一种岩性圈闭的刻画方法

权利要求书

1.一种岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、选取能够满足岩性圈闭刻画需求的资料；

S2、识别优势沉积相带；

S3、识别坡折带的类型及所述坡折带的展布范围，并基于所述坡折带确定有利砂体展布；

S4、对所述有利砂体展布进行定量刻画，完成岩性圈闭的刻画；

所述步骤S3包括：

S31、采用微古地貌-地层倾角属性-瞬时相位属性三元耦合的方法识别所述坡折带的类型及所述坡折带的展布范围；

S32、建立多级坡折控制下的岩性体发育模式，确定所述有利砂体展布；

S33、采用地震复合微相刻画砂体尖灭线。

2.根据权利要求1所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，所述步骤S4之后还包括：

S5、确定刻画的所述岩性圈闭的有效性。

3.根据权利要求1所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，所述步骤S2包括：

S21、建立层序地层格架；

S22、依据所述层序地层格架识别并绘制所述优势沉积相带。

4.根据权利要求3所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，所述步骤S21包括：

S211、识别钻井层序界面；

S212、识别地震层序界面；

S213、依据所述钻井层序界面和所述地震层序界面建立所述层序地层格架。

5.根据权利要求3所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，在所述步骤S22中，在所述层序地层格架下，利用地层切片与地震属性联合分析技术，绘制各个层序的沉积相图，以确定优势沉积相带。

6.根据权利要求1所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，所述步骤S4包括：

S41、反演储层预测描述所述有利砂体展布范围；

S42、确定所述有利砂体的厚度。

7.根据权利要求6所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，在所述步骤S42中，绘制砂体厚度网格以确定所述有利砂体的厚度。

8.根据权利要求2所述的岩性圈闭的刻画方法，其特征在于，所述步骤S5包括：

S51、进行断距分析和岩性对置定性分析；

S52、进行泥岩涂抹封堵下限定量分析。