[发明专利]一种离轴成像系统点扩散函数的测量方法和建模方法有效

专利信息
申请号: 202010424675.4 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN113686546B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 张祥朝;牛振岐;朱睿 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G06F30/20
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 陆惠中;王永伟
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 成像 系统 扩散 函数 测量方法 建模 方法
【权利要求书】:

1.一种离轴成像系统点扩散函数的测量方法,其特征在于,采用投影屏幕作为标准物,显示圆斑阵列,实现各个位置的扩散函数的可靠测量,具体包括以下步骤:

S1:采用屏幕显示二值化圆斑阵列,圆斑的直径小于阵列周期的1/3;

S2:经过离轴成像系统后由相机采集图样,每个圆斑对应成为模糊像斑,利用下式计算图样各像素处光强梯度,I(u,v)为各像素处的光强,(u,v)为像素坐标:

S3:根据各像斑的光强梯度分布,将光强梯度值最大的像素拟合为椭圆,该椭圆曲线为该像斑中心区域的轮廓线,椭圆中心坐标(u0,v0)作为整个像斑的中心,计算轮廓线外面各像素(u,v)到轮廓线上的最近像素坐标(un,vn),利用下式将轮廓线外面各像素(u,v)向像斑中心移动,得到半径为0的理想屏幕物点所对应的点扩散函数弥散斑(u’,v’):

(u',v')=(u,v)-(un,vn)+(u0,v0)

S4:对每个点扩散函数弥散斑,采用斜正态函数进行拟合:

其中σ,κ1212,ω为决定点扩散函数形状的参数,(i,j)=(u’,v’)-(u0,v0)为弥散斑内各像素的相对坐标;

S5:以采集到的所有弥散斑中心坐标(u0,v0)为自变量,将弥散斑拟合的六个参数σ,κ1212,ω视为因变量,分别拟合为关于(u0,v0)三次函数,可得到点扩散函数p(i,j)随空间变化的分布规律。

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