[发明专利]一种预清洗装置

权利要求书

1.一种预清洗装置，用于去除晶圆表面的颗粒，其中，所述晶圆具有相对的第一面与第二面、以及连接所述第一面及第二面的边缘面，其特征在于，所述预清洗装置包括：

支撑结构；

装配在所述支撑结构上的夹持组件，所述夹持组件包括用于吸附所述晶圆的第二面并带动所述晶圆绕所述晶圆的中心定点转动的吸盘；其中，所述晶圆的第二面的面积大于所述吸盘的面积；

设置在所述支撑结构上且用于对所述晶圆的第一面抛光的第一抛光组件；

还包括：

设置在所述支撑结构上且用于对所述晶圆的第二面上未被所述吸盘覆盖的表面及所述边缘面抛光的第二抛光组件；

其中，所述第二抛光组件包括：

装配在所述支撑结构上的L型载头；

设置在所述L型载头的竖直部分的第二抛光垫，所述第二抛光垫用于抵压在所述晶圆的第二面上未被所述吸盘覆盖的表面上，以对所述第二面上未被所述吸盘覆盖的表面抛光；

设置在所述L型载头的水平部分的第三抛光垫，所述第三抛光垫用于抵压在所述晶圆的边缘面上，以对所述边缘面抛光。

2.如权利要求1所述的预清洗装置，其特征在于，所述第二抛光组件还包括设置在所述支撑结构上且抵压在所述L型载头的竖直部分的加压装置，所述加压装置用于对所述第二抛光垫施加设定压力以维持所述第二抛光垫的抛光量。

3.如权利要求2所述的预清洗装置，其特征在于，所述加压装置为弹性加压装置或气压加压装置。

4.如权利要求1-3任一项所述的预清洗装置，其特征在于，所述第二抛光垫及所述第三抛光垫的材料包括聚氨酯、砂纸。

5.如权利要求1所述的预清洗装置，其特征在于，还包括：

设置在所述支撑结构上且用于对所述晶圆的第二面以及边缘面清洗的清洗器具。

6.如权利要求5所述的预清洗装置，其特征在于，所述清洗器具包括兆声清洗器具、喷雾清洗器具、刷洗器和水清洗器具中的至少一种器具。