[发明专利]一种转移石墨烯的操作方法有效

专利信息
申请号: 202010415172.0 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111661842B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 牛刚;武和平;任巍;姜陆月 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 房鑫
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 转移 石墨 操作方法
【说明书】:

发明公开了一种转移石墨烯的操作方法,包括以下步骤:在生长基底/石墨烯的石墨烯一侧旋涂熔融的石蜡,在石蜡层上旋涂保护层材料,获得生长基底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构;使用腐蚀性溶液将生长基底去除,获得石墨烯/石蜡/保护层复合结构;借助石蜡的高热膨胀系数减少石墨烯的褶皱,然后将将石墨烯/石蜡/保护层复合结构由水面转移到目标衬底,获得目标衬底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构;溶解掉目标衬底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构中的保护层和石蜡层,获得目标衬底/石墨烯结合体,清洗干燥完成转移。本发明的操作方法在石蜡层上旋涂了保护层,能够实现石墨烯薄膜大面积清洁地转移到目标基底上。

技术领域

本发明属于纳米材料技术领域,涉及石墨烯清洁转移技术领域,特别涉及一种转移石墨烯的操作方法。

背景技术

石墨烯是一种二维结构的碳的同素异形体,它由杂化的单层碳原子相互紧密排列组成,具有蜂窝网状晶体结构。从其2004年第一次被制备以来,便开启了二维材料研究的热潮。独特的结构使石墨烯具有许多新奇的物理和化学性质,包括在电学、光学、力学等诸多方面,如极低的电阻率,超高的电子迁移率,高表面积,良好的机械强度,以及与大分子、生物分子的高度相容性。因为石墨烯单层结构不能单独存在于现实环境中,无论是生长制备还是实际使用,石墨烯都需要附着在相应的衬底上;同时,石墨烯的制备也往往需要借助衬底的催化作用实现石墨烯的生长。

为了表征和应用生长基底上的石墨烯,经常需要将生长的石墨烯转移到目标衬底上。目前,使用最广泛的石墨烯转移方法仍然是基于基底刻蚀的湿法转移,使用高分子聚合物作为转移介质。先利用转移介质保护与维持石墨烯的结构,随后以去除生长基底的方式分离石墨烯,最后将石墨烯放置于目标衬底上并去除转移介质。目前,最常用介质材料是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),存在的问题是转移介质难以完全去除。最新采用的转移介质是采用石蜡作为转移介质,借助石蜡的饱和烷烃与高热膨胀系数的特点,实现石墨烯的洁净、无褶皱转移;但是此方法的局限性在于石蜡保护层相比于PMMA层的力学性能更差,在转移过程中石蜡层极易发生破碎,导致转移过程耗时长、工作量大、完整率低,同时难以实现大面积连续的石墨烯转移。

综上,亟需一种新的能够实现大面积清洁转移石墨烯且更可靠的操作方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种转移石墨烯的操作方法,以解决上述存在的一个或多个技术问题。本发明的操作方法,使用石蜡作为石墨烯的转移介质,可将石墨烯薄膜清洁地转移到目标基底上。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:

本发明的一种转移石墨烯的操作方法,包括以下步骤:

步骤1,在生长基底/石墨烯的石墨烯一侧旋涂熔融的石蜡,冷却,获得生长基底/石墨烯/石蜡复合结构;

步骤2,在步骤1获得的复合结构的石蜡层上旋涂保护层材料,获得生长基底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构;

步骤3,使用腐蚀性溶液将步骤2获得的复合结构中的生长基底去除,获得石墨烯/石蜡/保护层复合结构;

步骤4,将步骤3获得的复合结构在35℃~45℃的去离子水中保持1小时以上,借助石蜡的高热膨胀系数减少石墨烯的褶皱;其中,石墨烯面与水面接触;

步骤5,将步骤4处理后的石墨烯/石蜡/保护层复合结构由水面转移到目标衬底,在目标衬底上干燥,获得目标衬底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构;

步骤6,使用不溶解石蜡的有机溶剂,溶解掉目标衬底/石墨烯/石蜡/保护层复合结构中的保护层,获得目标衬底/石墨烯/石蜡复合结构;

步骤7,将步骤6获得的目标衬底/石墨烯/石蜡复合结构,在35℃~45℃下保温预设时间,用于去除石墨烯褶皱;

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