[发明专利]溅射装置在审
| 申请号: | 202010323404.X | 申请日: | 2020-04-22 |
| 公开(公告)号: | CN111826630A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
| 发明(设计)人: | 村上尚史;吉良隆一;神丸刚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 溅射 装置 | ||
1.一种溅射装置,其具有:
成膜辊,该成膜辊沿周向输送膜;以及
多个成膜室,该多个成膜室沿着所述成膜辊的周向配置,
该溅射装置的特征在于,
所述多个成膜室均具有:
靶单元,该靶单元与所述成膜辊隔有间隔地相对配置;以及
壁部,该壁部划分出所述成膜室,
在所述壁部设有排气部,
在与所述成膜辊的轴向正交的剖视图中,在经过所述成膜辊的中心和所述排气部的中心的第1假想线上配置有所述靶单元。
2.根据权利要求1所述的溅射装置,其特征在于,
所述壁部具有:
排气壁,在该排气壁设有所述排气部;以及
两个分隔壁,该两个分隔壁从所述排气壁朝向所述成膜辊地沿径向延伸,彼此隔有间隔地配置,
所述排气壁相对于所述第1假想线对称。
3.根据权利要求2所述的溅射装置,其特征在于,
所述两个分隔壁相对于所述第1假想线对称。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的溅射装置,其特征在于,
所述壁部还具有将所述排气壁和所述分隔壁连结起来的连结壁,
所述连结壁相对于经过所述成膜室的在所述轴向上的中心的第2假想线对称。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的溅射装置,其特征在于,
在所述多个成膜室均设有与所述排气部相连结的泵。
6.根据权利要求1~3中任一项所述的溅射装置,其特征在于,
所述排气部相对于经过所述成膜室的在所述轴向上的中心的第2假想线对称。
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