[发明专利]一种适用于光刻机的焦距调整方法在审

专利信息
申请号: 202010289792.4 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN111458991A 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 王泽明;朱勤;邓超略;黄文斌;高尊虎 申请(专利权)人: 湖南印之明智能制造有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;H04N5/232
代理公司: 东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙) 44251 代理人: 刘汉民
地址: 411100 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 光刻 焦距 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种适用于光刻机的焦距调整方法,其特征在于,包含:

准备工序,准备撷取影像设备、线性模组、光刻机以及上位机;

校准工序,撷取影像设备拾取光刻机上的激光束,该激光束映射在视撷取影像设备内的板材并成像,上位机接收撷取影像设备的数据信号获取图像频率并控制线性模组微调撷取影像设备的位置,以获取图像最高的图像频率成分。

2.根据权利要求1所述的一种适用于光刻机的焦距调整方法,其特征在于:所述上位机通过ISP算法计量图像中相邻像素之间的密度差距,从而判定最高图像频率的图像。

3.根据权利要求1-2任意一项所述的一种适用于光刻机的焦距调整方法,其特征在于:所述撷取影像设备为高像素摄像头。

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