[发明专利]涂层制备系统

权利要求书

1.一种涂层制备系统，用于制备工件表面涂层，其特征在于，包括：电源、激光器、电解液、控制器以及微弧氧化装置；

所述控制器分别与所述电源以及所述激光器连接；

所述电源的正极与微弧氧化装置的阳极连接，负极与微弧氧化装置的阴极连接；所述阳极和阴极浸没于所述电解液中；

所述控制器用于获取阳极的工件参数，并生成对应的激光器控制参数和电源控制参数，所述激光器控制参数包括预热参数以及微弧氧化参数，所述微弧氧化参数和所述电源控制参数具有相同的脉冲周期和脉冲宽度；

所述控制器控制所述激光器对阳极的部分区域进行预热；所述控制器控制所述电源和所述激光器对预热后的阳极进行激光电弧耦合微弧氧化；

所述控制器具体用于将所述预热参数传输至所述激光器，以使激光器根据所述预热参数生成第一脉冲对所述阳极进行预热；预热处理结束后，将所述电源控制参数传输至电源以及将所述微弧氧化参数传输至激光器，以使所述激光器根据所述微弧氧化参数生成第二脉冲，所述电源根据所述电源控制参数生成第三脉冲，以第二脉冲和第三脉冲对阳极进行激光电弧耦合微弧氧化。

2.根据权利要求1所述的涂层制备系统，其特征在于，所述微弧氧化装置还包括恒温冷却器以及电解槽；

所述恒温冷却器与所述电解槽连接，用于将所述电解槽进行冷却处理；

所述电解槽中盛装有电解液。

3.根据权利要求2所述的涂层制备系统，其特征在于，所述微弧氧化装置还包括搅拌器；

所述搅拌器一端与所述电解槽的槽壁连接，另一端延伸至所述电解液中，用于搅拌所述电解液，使电解液在电解槽内均匀分布。

4.根据权利要求1所述的涂层制备系统，其特征在于，所述控制器还包括霍尔传感器，所述霍尔传感器与所述电源连接，用于采集电源的运行信息。

5.根据权利要求4所述的涂层制备系统，其特征在于，所述控制器还包括显示装置；所述显示装置与所述霍尔传感器连接，用于将所述运行信息，以图像和/或文字的方式显示。

6.根据权利要求1所述的涂层制备系统，其特征在于，所述微弧氧化参数包括第一辅助脉冲值和第二辅助脉冲值；

所述控制器根据所述第一辅助脉冲值控制所述激光器输出第一能量脉冲；和/或根据所述第二辅助脉冲值控制所述激光器输出第二能量脉冲；第一能量脉冲与第二能量脉冲构成第二脉冲。

7.根据权利要求6所述的涂层制备系统，其特征在于，所述电源控制参数包括正向电流脉冲值和负向电流脉冲值；

所述控制器根据所述正向电流脉冲值控制所述电源输出正向脉冲；和/或根据所述负向电流脉冲值控制所述电源输出负向脉冲；正向脉冲与负向脉冲构成第三脉冲。

8.根据权利要求7所述的涂层制备系统，其特征在于，

所述控制器检测激光器输出第二脉冲的脉冲值以及电源输出第三脉冲的脉冲值；当所述第二脉冲的脉冲值到达第一预设阈值同时所述第三脉冲的脉冲值到达第二预设阈值时，对阳极进行激光电弧耦合微弧氧化。

9.根据权利要求1所述的涂层制备系统，其特征在于，所述控制器还用于根据工件参数获得微弧氧化过程中的扫描速度以及放电区域间隔，并生成对应的运动轨迹；

根据所述运动轨迹、扫描速度以及放电区域间隔，控制激光器以及电源对阳极进行激光电弧耦合微弧氧化。