[发明专利]光学元件用薄膜及其制造方法、无机偏振片及其制造方法、以及光学元件和光学仪器

权利要求书

1.光学元件用薄膜，其是作为光学元件中使用的单层薄膜的光学元件用薄膜，

该光学元件用薄膜含有Si单质、Si化合物和金属或金属化合物，其中，上述Si化合物中除外Si合金。

2.权利要求1所述的光学元件用薄膜，其中，Si单质、上述Si化合物和上述金属或金属化合物的混合比沿膜厚方向变化。

3.权利要求1或2所述的光学元件用薄膜，其中，上述Si化合物为Si的碳化物和氧化物。

4.权利要求1～3中任一项所述的光学元件用薄膜，该光学元件用薄膜含有Nb的氧化物作为上述金属或金属化合物。

5.光学元件用薄膜的制造方法，其是权利要求1～4中任一项所述的光学元件用薄膜的制造方法，包括以下工序：

以Si的碳化物和金属或金属化合物作为溅镀靶，在氧化性气体的存在下进行反应性溅镀的工序。

6. 无机偏振片，其是具有线栅结构的无机偏振片，该无机偏振片具备：

透明基板；以及

以短于使用频带的光的波长的间距排列在上述透明基板上的格子状凸部，

其中，上述格子状凸部从上述透明基板侧起依次具有反射层和由权利要求1～4中任一项所述的光学元件用薄膜构成的反射抑制层。

7.权利要求6所述的无机偏振片，其中，上述反射抑制层的宽度小于上述反射层的宽度。

8.权利要求6或7所述的无机偏振片，该无机偏振片进一步具备覆盖上述格子状凸部表面的保护膜。

9.权利要求8所述的无机偏振片，其中，上述保护膜包含无机氧化物膜和氟系防水膜的至少一种。

10. 无机偏振片的制造方法，其是具有线栅结构的无机偏振片的制造方法，具有以下工序：

形成层叠体的工序，所述层叠体在透明基板上从上述透明基板侧起依次具有反射层和由权利要求1～4中任一项所述的光学元件用薄膜构成的反射抑制层；以及

通过选择性地蚀刻上述层叠体，形成以短于使用频带的光的波长的间距排列在上述透明基板上的格子状凸部的工序。

11.光学元件，该光学元件具备权利要求1～4中任一项所述的光学元件用薄膜。

12.光学仪器，该光学仪器具备权利要求6～9中任一项所述的无机偏振片。