[发明专利]一种紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 202010174312.X | 申请日: | 2020-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN111393686B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
| 发明(设计)人: | 阮文红;邓泽锟;唐文涛;黄逸夫 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
| 主分类号: | C08J3/28 | 分类号: | C08J3/28;C08L53/00;C08F293/00;C08F220/36 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 苏晶晶 |
| 地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 紫外 光诱导 结晶 形态 转变 改性 共聚物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将嵌段共聚物加热到熔融温度热退火结晶,热退火结晶的过程中进行紫外光照射,紫外光波长为365nm,所述嵌段共聚物的结构式如下:
其中,m=10~15,n=23~2272,
其中,所述所述热退火结晶的降温速率为5℃/min~20℃/min。
2.如权利要求1所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所述嵌段共聚物通过由含偶氮苯类的乙烯类单体与大分子引发剂通过活性聚合制得,所述含有偶氮苯基团的乙烯类单体的结构式如下:
其中,n=11;R1为氢,
所述大分子引发剂为端基为溴的聚乙二醇大分子聚合物。
3.如权利要求2所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所述聚乙二醇大分子聚合物的分子量为1000~100000。
4.如权利要求3所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所述聚乙二醇大分子聚合物为端基为溴的分子量为10000的聚乙二醇聚合物。
5.如权利要求4所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所述嵌段共聚物为三嵌段共聚物,分子量为18000~22000。
6.如权利要求1~5任意一项所述改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所述热退火结晶为从150℃~100℃降温至0℃。
7.如权利要求1所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,所热退火结晶的降温速率为10℃/min。
8.权利要求1~5任意一项所述紫外光诱导结晶形态转变的改性嵌段共聚物的制备方法制备得到的改性嵌段共聚物,其特征在于,所述改性嵌段共聚物的结晶形态为大球晶,维氏硬度为5.30,弹性模量为5.73GPa。
9.权利要求8所述改性嵌段共聚物在制备纳米结构材料、非线性光学材料、表面起伏光栅和微型制动器中的应用。
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