[发明专利]一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010174144.4 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN111286061A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 邹清清;刘楷楷;董红星;汪正时 申请(专利权)人: 宁波惠之星新材料科技有限公司
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D133/16;C09D7/63;C09D5/00;C09D7/61;C09D183/04;C09D183/08;C09D183/07;C09D183/06;C08L67/02;C08L
代理公司: 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 代理人: 戚秋鹏
地址: 315000 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 具有 摩擦系数 接触角 薄膜 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜及制备方法,其薄膜包括从下到上依次贴合的透明基膜、底涂层和AF层;其制备方法包括以下步骤:步骤S001,取材;选取合适材料的透明基膜;步骤S002,配置底涂液;将含不饱和官能团的聚合物和光引发剂用溶剂稀释,形成底涂液;步骤S003,贴合底涂层;将底涂液涂布在透明基膜上,经烘箱加热固化、UV固化或双固化后形成底涂层;步骤S004,贴合AF层;将AF液涂布在步骤S003中成形的半成品上,经烘箱加热后交联固化形成AF层。本发明提供的一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜及制备方法,克服了现有薄膜爽滑和防指纹效果差、制备工艺复杂、不适合大批量生产的缺陷。

技术领域

本发明涉及电子产品薄膜领域,特别是涉及一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜及制备方法。

背景技术

近年来,消费者对电子产品的要求越来越高,不仅在性能上追求更高和更稳定更好外,对产品也提出了如防水、防指纹和高爽滑等要求。为增加消费者对如手机等电子产品良好的体验感和满意度,电子产品表面高爽滑和防指纹效果是必不可少的要求。目前,具有高爽滑和防指纹效果薄膜实现方案主要有以下两种。

第一种方案采用的是AF镀膜的方式,这种方案是在清洗干净的触摸屏上喷涂一层AF喷雾,经固化处理后形成AF膜。第二种方案采用的是通过表面修饰来降低摩擦系数的方式,这种方案是将铜基表面经化学刻蚀后的粗糙结构用硅烷溶液再次化学接枝修饰表面,从而达到降低摩擦系数的效果。虽然这两种方案在一定程度上提高了薄膜的高爽滑和防指纹效果,但其提升效果有限,还有待改善;并且现有的薄膜主要是通过喷涂和镀膜方式来实现爽滑和防指纹效果,操作复杂加工生产时间慢,制造成本高,不利于大批量生产。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明所要解决的问题是提供一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜及制备方法,克服了现有薄膜爽滑和防指纹效果差、制备工艺复杂、不适合大批量生产的缺陷。

(二)技术方案

为解决所述技术问题,本发明提供一种具有低摩擦系数和高水接触角的薄膜,包括从下到上依次贴合的透明基膜、底涂层和AF层,所述底涂层和所述AF层之间还贴合有稳定层。本发明在透明基膜的表面依次贴合有底涂层、稳定层和AF层,设置透明基膜、底涂层和稳定层,便于贴合AF层,本薄膜具有摩擦系数低和水接触角高的特点,可有效实现爽滑和防指纹效果且稳定性好。

进一步的,所述透明基膜的材质可为PET、TAC、PC、PE、PP、PI、PMMA、TPU或PEN,所述透明基膜的厚度为20μm~500μm,优选的厚度为50μm-200μm。所述AF层是由AF液固化而形成的涂层,所述AF层的涂层厚度在5nm~100nm,优选的厚度为10nm-80nm。

进一步的,所述底涂层由底涂液经热固、UV固化或双固化而形成,所述底涂层的涂层厚度为1μm~10μm,优选的厚度为1.5μm-8μm;以质量百分含量计,所述底涂液的原料组成包括:含不饱和官能团的聚合物25~55%、溶剂40%~75%和光引发剂1%~8%,所述聚合物包括聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂、氟丙烯酸树脂中的一种或几种的组合,所述溶剂包括异丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的一种或几种的混合,所述光引发剂包括2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦中的一种或两种搭配。其中,以质量百分含量计,所述底涂液的原料组成还可包括可添加成分1%~5%,所述可添加成分包括纳米二氧化硅、含硅添加剂、抗静电剂中的一种或几种组合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波惠之星新材料科技有限公司,未经宁波惠之星新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010174144.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top