[发明专利]防窥膜、背光源和显示装置有效

专利信息
申请号: 202010156961.7 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN111323982B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 汤海;高亮;耿霄霖;张冰 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G02F1/1677;G02F1/16757;G02F1/13;G02F1/13357;G02F1/157
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;冯建基
地址: 230012 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 防窥膜 背光源 显示装置
【权利要求书】:

1.一种防窥膜,其特征在于,所述防窥膜包括透光的膜本体、电泳液、第一电极图形和第二电极图形,所述膜本体包括入光面和出光面,所述第一电极图形和所述第二电极图形沿所述防窥膜的厚度方向间隔设置,所述膜本体内部形成有多个容纳腔,所述电泳液设置在所述容纳腔内,且所述电泳液位于所述第一电极图形和所述第二电极图形之间,延伸方向一致的相邻两条所述容纳腔之间的距离为预定距离,所述电泳液包括分散介质和电泳粒子,所述分散介质的折射率小于所述膜本体的折射率。

2.根据权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述膜本体的出光面包括多个平面连接部和多个曲面凸起部,所述曲面凸起部位于相邻两个所述容纳腔之间,所述平面连接部连接相邻的所述曲面凸起部。

3.根据权利要求2所述的防窥膜,其特征在于,所述防窥膜的尺寸满足以下关系:

其中,d1为相邻两个容纳槽相对的侧面之间的距离;

h1为容纳槽的顶面与所述入光面之间的距离;

σ为从所述防窥膜的入光侧投射在所述曲面凸起部上的光线的最大发散角。

4.根据权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述分散介质的折射率和所述膜本体的折射率之间满足以下关系:

其中,n4为所述分散介质的折射率;

n1为所述膜本体的折射率;

δ为从所述容纳腔的侧壁上反射的光线的最大发散角。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的防窥膜,其特征在于,所述第一电极图形包括多个第一电极,每个所述容纳腔内均设置有至少一个所述第一电极。

6.根据权利要求5所述的防窥膜,其特征在于,所述膜本体包括第一基板和第二基板,所述第一基板和所述第二基板贴合,所述第二基板背离所述第一基板的表面为所述入光面,所述第一基板背离所述第二基板的表面为所述出光面。

7.根据权利要求6所述的防窥膜,其特征在于,所述第一电极设置在所述容纳腔的顶面上,所述第一电极的边缘与所述容纳腔的侧壁之间存在间隔,其中,所述容纳腔的顶面为所述容纳腔上朝向所述出光面的表面。

8.根据权利要求6所述的防窥膜,其特征在于,所述容纳腔形成在所述第一基板内,或者,所述容纳腔包括形成在所述第一基板上的第一容纳槽和形成在所述第二基板上的第二容纳槽。

9.根据权利要求6所述的防窥膜,其特征在于,所述第一电极图形为整面电极,所述第一电极图形设置在所述第一基板与所述第二基板之间,所述容纳腔形成在所述第二基板内。

10.根据权利要求1至4中任意一项所述的防窥膜,其特征在于,所述第二电极图形为整面电极,且所述第二电极图形由透明电极材料制成,所述第二电极图形位于所述入光面的入光侧。

11.根据权利要求1至4中任意一项所述的防窥膜,其特征在于,所述防窥膜还包括至少一个反射层,至少一个所述容纳腔的底面设置有所述反射层,所述容纳腔的底面为所述容纳腔上朝向所述入光面的表面。

12.根据权利要求1至4中任意一项所述的防窥膜,其特征在于,多条所述容纳腔互相平行;或者

多条所述容纳腔互相交错,将所述防窥膜划分为多个透光部。

13.一种背光源,所述背光源包括发光面板,其特征在于,所述背光源还包括权利要求1至12中任意一项所述的防窥膜,所述防窥膜的入光面与所述发光面板的出光面相对设置。

14.根据权利要求13所述的背光源,其特征在于,所述背光源还包括设置在所述防窥膜出光侧的反射偏光片。

15.一种显示装置,所述显示装置包括显示面板和背光源,其特征在于,所述背光源为权利要求13或14所述的背光源,所述背光源设置在所述显示装置的背光侧。

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