[发明专利]一种高散热扇出型封装结构及封装方法有效
| 申请号: | 202010148685.X | 申请日: | 2020-03-05 |
| 公开(公告)号: | CN111430327B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
| 发明(设计)人: | 崔成强;杨冠南;徐广东;张昱 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
| 主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L23/14;H01L23/373;H01L21/48;H01L21/60 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
| 地址: | 510060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 散热 扇出型 封装 结构 方法 | ||
1.一种高散热扇出型封装结构,其特征在于,包括带有凸点的芯片、石墨烯载板、介电层、再布线层、塑封层、散热模块以及焊球;所述石墨烯载板的上下两侧均设置有所述再布线层,所述介电层设置在所述石墨烯载板与所述再布线层之间,所述石墨烯载板上贯穿有铜柱,所述再布线层之间通过所述铜柱进行连接,所述芯片设置在所述石墨烯载板的上方,位于所述石墨烯载板上方的再布线层与所述芯片的凸点连接,位于所述石墨烯载板下方的再布线层与所述焊球连接,所述塑封层包裹在所述芯片的外侧,所述散热模块设置在所述塑封层上;所述散热模块为具有热沉形状的石墨烯散热板,所述石墨烯散热板包括底层石墨烯原子层和上层石墨烯原子层,所述底层石墨烯原子层沿平行于所述石墨烯载板的方向进行布置,所述上层石墨烯原子层垂直于所述石墨烯载板的方向进行布置。
2.根据权利要求1所述的高散热扇出型封装结构,其特征在于,所述石墨烯载板以及石墨烯散热板均由石墨烯或其复合材料制成。
3.根据权利要求2所述的高散热扇出型封装结构,其特征在于,所述石墨烯载板的微观原子层沿其垂直方向进行布置。
4.一种基于权利要求1所述的高散热扇出型封装结构的高散热扇出型封装方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:在具有通孔的石墨烯载板的上下两侧覆压介电层;
S2:进行金属种子层沉积、覆压感光材料、曝光显影和图形电镀操作,在介电层上形成再布线层,同时通过电镀填充石墨烯板的通孔,导通上下再布线层;
S3:去除感光材料层,并通过差别刻蚀的方法去除金属种子层;
S4:通过具有高导热性能的粘结材料将芯片安装至石墨烯载板上;
S5:进行塑封;
S6:在塑封层上方安装散热模块;
S7:在再布线层的上方涂覆光敏阻焊材料保护层,并进行曝光、显影、固化处理和表面处理;
S8:进行球下金属沉积、植球和切割,最终获得所需封装结构。
5.根据权利要求4所述的高散热扇出型封装方法,其特征在于,在步骤S4中,当芯片的凸点朝下时,通过倒装的方式实现芯片的凸点与再布线层的互连;当芯片的凸点朝上时,将芯片背部安装至石墨烯载板上,并通过引线键合方式实现芯片的凸点与再布线层的互连。
6.根据权利要求4所述的高散热扇出型封装方法,其特征在于,石墨烯载板的通孔通过机械、化学刻蚀或激光加工制成,通孔内壁通过物理氧化、化学腐蚀、电弧放电或绝缘层沉积的方式进行绝缘化处理。
7.根据权利要求4所述的高散热扇出型封装方法,其特征在于,在步骤S4中,其中的高导热性能的粘结材料为纳米铜膏或纳米银膏,介电层材料为环氧树脂、聚酰亚胺、苯并环丁烯或ABF,塑封层材料为环氧树脂、聚酯、聚氨酯、聚硅氧烷、双马来酰亚胺或氰酸酯树脂。
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