[发明专利]一种光电协同催化胶体射流喷嘴在审
| 申请号: | 202010141157.1 | 申请日: | 2020-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN111421476A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
| 发明(设计)人: | 宋孝宗;王继波 | 申请(专利权)人: | 兰州理工大学 |
| 主分类号: | B24C5/04 | 分类号: | B24C5/04;B24C1/08 |
| 代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 董斌 |
| 地址: | 730050 甘肃*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光电 协同 催化 胶体 射流 喷嘴 | ||
一种光电协同催化胶体射流喷嘴,属于射流加工超光滑表面技术领域,涉及包括上喷嘴体、下喷嘴体、高压密封圈、紧固螺栓、导电玻璃镜片、光纤准直器接头、阳极接线柱、阴极铜板及接线柱。导电玻璃镜片与高压密封圈安装在所述上喷嘴体与下喷嘴体之间,上喷嘴体与下喷嘴体通过紧固螺栓压紧高压密封圈实现密封。上喷嘴体中间有一螺纹通孔与所述光纤准直器接头进行螺纹连接。下喷嘴体包括内腔、两个胶体入口和一个胶体出口。阳极接线柱通过上喷嘴体上的偏心贯通口与导电玻璃镜片连接,阴极铜板及接线柱为一体。该光电协同催化胶体射流喷嘴可使胶体射流束中光催化产生的光生电子‑空穴对分别定向迁移、分离,大幅提高射流抛光中的光催化效果。
技术领域
本发明涉及射流加工超光滑表面技术,具体涉及光电协同催化胶体射流喷嘴结构。
背景技术
为满足现代高精尖领域关键零部件超光滑无损伤表面高效制造的需求,宋孝宗提出一种聚焦紫外光和纳米颗粒胶体射流耦合喷嘴(公开号CN202498453U,公开日:2012.10.24)。喷嘴作为胶体射流加工的关键部件,可将纳米颗粒胶体射流束与聚焦紫外光束耦合,形成高速紫外光耦合纳米颗粒胶体射流束,并喷射在工件表面的待加工区域对工件进行抛光加工,紫外光的光化学作用产生大量的光生电子-空穴,可提高胶体射流中纳米颗粒与工件表面的化学反应几率,从而提高工件的抛光效率。但是,在先技术中,聚焦紫外光和纳米颗粒胶体射流耦合喷嘴中紫外光诱导产生的大量的光生电子-空穴对在胶体射流束中会快速复合,因此,该喷嘴的光催化效果并不十分理想。
发明内容
本发明的目的是提供了一种光电协同催化胶体射流喷嘴。
本发明是一种光电协同催化胶体射流喷嘴,包括光纤准直器接头1、阳极接线柱2、上喷嘴体3、导电玻璃镜片4、高压密封圈5、下喷嘴体6、阴极铜板及接线柱7、紧固螺栓8,所述导电玻璃镜片4与高压密封圈5安装在上喷嘴体3与下喷嘴体6之间,通过紧固螺栓8压紧上喷嘴体3与下喷嘴体6间的高压密封圈5;所述上喷嘴体3中心有一螺纹通孔9与所述光纤准直器接头1通过螺纹连接,所述光纤准直器接头1外接光纤;所述上喷嘴体3中心螺纹通孔9旁有一偏心贯通口10,所述阳极接线柱2通过偏心贯通口10与导电玻璃镜片4连接,所述阳极接线柱2为偏心铜柱,阳极接线柱2的下底柱与偏心贯通口10过盈配合,阳极接线柱2下底柱底面与导电玻璃镜片4零间隙紧密接触;所述阳极接线柱2与催化电源的正极连接;所述下喷嘴体6包括内腔和两个胶体入口14和一个胶体出口17,其中内腔和胶体出口17与下喷嘴体6同轴,而两个胶体入口4则垂直偏心对置分布在下喷嘴体6侧面;所述下喷嘴体内腔分为基本段13、收缩段15及整流段16三部分,其中基本段13和整流段16为圆柱形,收缩段15锥形或余弦形,整流段16与胶体出口17连接;所述的阴极铜板及接线柱7为一体偏心结构,与催化电源的负极相连。
本发明的有益之处在于:该光电协同催化胶体射流喷嘴将胶体射流动压场、催化光场、催化电场有机耦合形成一个整体。在导电玻璃镜片和金属铜板间产生电场回路,电场作用使得胶体射流束中催化光场产生的光生电子-空穴对分别定向迁移,从而使得光生电子-空穴对分离,解决了光生电子-空穴对在胶体射流束中会快速复合的问题,可大幅提高光催化效果,从而提高被加工工件的材料去除率。
附图说明
图1为光电协同催化胶体射流喷嘴的结构示意图,图2为光电协同催化胶体射流喷嘴结构装配图,图3为光电协同催化胶体射流喷嘴的剖视图。
具体实施方式
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