[发明专利]晶圆载盘的卸载装置及其卸载方法在审
| 申请号: | 202010102278.5 | 申请日: | 2020-02-19 |
| 公开(公告)号: | CN113284831A | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
| 发明(设计)人: | 宋茂炎 | 申请(专利权)人: | 总督科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/68 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 顾浩 |
| 地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶圆载盘 卸载 装置 及其 方法 | ||
1.一种晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,至少包括:
一第一机械臂,连结并受一控制模块驱动,在该第一机械臂的活动端上至少设有一影像攫取组件;
一第二机械臂,连结并受该控制模块驱动,在该第二机械臂的活动端上设有一晶圆取放机构;
一载盘,设置于该第一、二机械臂的活动范围内,且连结并受该控制模块驱动,该载盘上设有至少一承置晶圆的晶圆盘;
一晶圆校正机构,设置于该第二机械臂的活动范围内,且连结并受该控制模块驱动,以供读取置入的晶圆的编码及调整该晶圆的缺口;
一主校正机构,设置于该第一、二机械臂的活动范围内,且连结并受该控制模块驱动,以供分别校正该影像攫取组件及晶圆取放机构的位置;
一置料机构,设置于该第二机械臂的活动范围内,供该第二机械臂置放由该载盘上卸下已加工完成的晶圆。
2.如权利要求1所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,各晶圆分别通过一可锁掣的晶圆定位件固定在该晶圆盘上,且该第一机械臂的活动端上另设有一可装卸该晶圆定位件的晶圆定位件装卸机构。
3.如权利要求2所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该影像攫取组件具有一可产生照明光线的上取像组件,该主校正机构具有一下取像组件,在该下取像组件上方设有一透明片,在该透明片上设有一作为定位基准的标准刻度;该晶圆定位件装卸机构具有一定位面,在该定位面上设有一定位刻度;该晶圆取放机构具有可吸取晶圆的晶圆吸盘,在该晶圆吸盘上设有一指示刻度。
4.如权利要求3所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该晶圆定位件装卸机构在该定位面外旁侧设有至少二雷射光源。
5.如权利要求3所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该主校正机构在该下取像组件旁侧设有一测距雷射光源。
6.如权利要求1或2或3或4或5所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该置料机构系为一内部具有收容空间之置料匣,该置料匣设置于一升降机构上,该升降机构连结并受该控制模块驱动,以调整该置料匣的高度。
7.如权利要求1或2或3或4或5所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该载盘设置于一滑移机构上,该滑移机构具有一滑移座,该滑移座可沿至少二平行延伸的滑移导轨移动,在该滑移座上设有一承置该载盘的枢转座。
8.如权利要求6所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该载盘设置在一滑移机构上,该滑移机构具有一滑移座,该滑移座可沿至少二平行延伸的滑移导轨移动,在该滑移座上设有一承置该载盘的枢转座。
9.如权利要求7所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该载盘上方设有一外罩,该外罩上设有一凹缺口,可使该载盘上的局部晶圆盘对外裸露。
10.如权利要求8所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该载盘上方设有一外罩,该外罩上设有一凹缺口,可使该载盘上的局部晶圆盘对外裸露。
11.如权利要求1或2或3或4或5所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该晶圆校正机构具有一可供放置晶圆的承置座,在该承置座上方设有一取像单元。
12.如权利要求6所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该晶圆校正机构具有一可供放置晶圆的承置座,在该承置座上方设有一取像单元。
13.如权利要求7所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该晶圆校正机构具有一可供放置晶圆的承置座,在该承置座上方设有一取像单元。
14.如权利要求8所述的晶圆载盘的卸载装置,其特征在于,该晶圆校正机构具有一可供放置晶圆的承置座,在该承置座上方设有一取像单元。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于总督科技股份有限公司,未经总督科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010102278.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





