[发明专利]一种工业电解液中镍沉积层晶粒的细化方法在审

专利信息
申请号: 202010032723.5 申请日: 2020-01-13
公开(公告)号: CN111020648A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 徐仰涛;王雅宁 申请(专利权)人: 兰州理工大学
主分类号: C25D3/12 分类号: C25D3/12
代理公司: 西安合创非凡知识产权代理事务所(普通合伙) 61248 代理人: 惠银银
地址: 730050 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 工业 电解液 沉积 晶粒 细化 方法
【说明书】:

发明公开了一种工业电解液中镍沉积层晶粒的细化方法,该方法采用铈化合物作为细化剂,当硫酸铈添加量为0.6g/L,沉积出的镀层晶粒最细,当硫酸铈添加量从0g/L逐渐增大到0.6g/L,晶粒尺寸随之减小,稀土元素添加量与晶粒尺寸的变化呈负相关。当硫酸铈添加量从0.6g/L到1g/L,随着浓度的增大,晶粒尺寸呈现增长的趋势。本发明具有明显的晶粒细化效果,操作方便,为工业电解液中镍沉积层晶粒的细化提供了一种新的方法。

技术领域

本发明涉及晶粒细化领域,具体涉及一种工业电解液中镍沉积层晶粒的细化方法。

背景技术

稀土产品的应用是由稀土元素及其化合物的性质决定的。人们研究稀土金属在碳素钢、合金钢及有色合金中的作用机理时发现,稀土元素能使金属和合金的晶粒急剧细化。因此当下对稀土元素细化作用的研究主要集中于合金熔体的添加。研究表明,在不同的合金中添加不同含量、不同种类的稀土元素,可以得到晶粒细化的效果,从而增强合金的一些力学性能。例如稀土元素Gd 在A357 合金中的添加可以细化晶粒并减小二次枝晶间距。向过共晶Al-20%Si 合金中添加稀土Er,当Er的含量为1%时,微观组织细化效果最明显,初生硅尺寸最小,抗拉强度和伸长率最高。对Al-18%Si-10%Mg 合金,随着稀土元素Ce的添加,初生的Mg2Si 颗粒由粗大十字状或者不规则的多面体转变成为细小规则的块状,初生硅和共晶硅颗粒的尺寸也减小。将适量的稀土元素Y、Nd 和Gd 混合添加到AZ91D 镁合金中,AZ91D镁合金的抗拉强度和伸长率都有所提高,晶粒得到了明显的细化。

综上所述,稀土元素在合金熔体细化方面的应用较为广泛,但对于电解液体系,尤其是电沉积方面尚在研究阶段。电沉积是一个复杂的过程,电流密度、温度、PH、沉积时间等均会对最终镀层的微观组织形貌和性能产生影响。电解液中为达到晶粒细化的目的,一般会加入添加剂。目前有许多有机物已被证实对电结晶层有着良好的细化效果,某些芳香磺酞化物如糖精、茶磺酸、对甲苯磺酞胺等是镀镍常用的添加剂。例如,低电流密度下,糖精可以增加电镀镍的阴极极化,增大了镍镀层在NaCl溶液中的电荷传递电阻,提高了镍镀层的耐蚀性。邻磺酰苯酰亚胺和1,4-丁炔二醇都能提高镍的电结晶几率;当其联合使用时对镍电沉积的阻化效果最好,更有利于获得光亮细腻的镀镍层。丙烯基硫脲的加入没有改变镍的形核方式,但形核数密度增大,并且减小晶体向外生长的速率,可以细化晶粒,得到整平、致密的镍沉积层。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供了一种工业电解液中镍沉积层晶粒的细化方法。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:

一种工业电解液中镍沉积层晶粒的细化方法,该方法采用铈化合物作为细化剂,当硫酸铈添加量为0.6g/L,沉积出的镀层晶粒最细,当硫酸铈添加量从0g/L 逐渐增大到0.6g/L,晶粒尺寸随之减小,稀土元素添加量与晶粒尺寸的变化呈负相关,当硫酸铈添加量从0.6g/L 到1g/L,随着浓度的增大,晶粒尺寸呈现增长的趋势。

本发明以稀土元素铈作为细化剂,具有明显的晶粒细化效果,操作方便,为工业电解液中镍沉积层晶粒的细化提供了一种新的方法。

附图说明

图1为Ce2(SO4)3的添加量为0g/L时镍电沉积的SEM图。

图2为Ce2(SO4)3的添加量为0.2g/L时镍电沉积的SEM图。

图3为Ce2(SO4)3的添加量为0.4g/L时镍电沉积的SEM图。

图4为Ce2(SO4)3的添加量为0.6g/L时镍电沉积的SEM图。

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