[发明专利]一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备

权利要求书

1.一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其结构包括：底杆撑架(1)、机箱壳体(2)、提拉柱板块(3)、等离子棉浸槽(4)、观察窗(5)、排渣漏斗槽(6)、载物槽(7)，其特征在于：

所述等离子棉浸槽(4)安装于机箱壳体(2)的内部，所述载物槽(7)嵌套于排渣漏斗槽(6)的底部下，所述观察窗(5)紧贴于等离子棉浸槽(4)的前侧，所述排渣漏斗槽(6)嵌套于等离子棉浸槽(4)的底部下，所述提拉柱板块(3)安装于机箱壳体(2)的顶部上，所述底杆撑架(1)焊接在机箱壳体(2)的底部下，所述提拉柱板块(3)与等离子棉浸槽(4)机械连接，所述载物槽(7)与底杆撑架(1)紧贴在一起；

所述等离子棉浸槽(4)设有通风槽口(4A)、电极板盘座(4B)、衔铁架杆(4C)、棉浸弯杆(4D)、施釉喷射器(4E)、吊转连杆架(4F)、顶格槽(4G)、密封处理箱(4H)；

所述通风槽口(4A)嵌套于密封处理箱(4H)的左侧，所述顶格槽(4G)紧贴于密封处理箱(4H)的顶部上，所述电极板盘座(4B)与衔铁架杆(4C)电连接，所述棉浸弯杆(4D)插嵌在电极板盘座(4B)轴心的顶部上，所述施釉喷射器(4E)嵌套于吊转连杆架(4F)的底部下，所述吊转连杆架(4F)安装于顶格槽(4G)的内部，所述电极板盘座(4B)安设在密封处理箱(4H)的内部，所述密封处理箱(4H)安装于机箱壳体(2)的内部；

所述棉浸弯杆(4D)由棉芯弧块(4D1)、蛇形弯杆(4D2)组成，所述棉芯弧块(4D1)与蛇形弯杆(4D2)相配合，所述棉芯弧块(4D1)安装于蛇形弯杆(4D2)的前侧；

所述棉芯弧块(4D1)由吸水孔(4D11)、棉芯板块(4D12)、施釉漆管(4D13)、侧棉条(4D14)组成，所述吸水孔(4D11)安装于棉芯板块(4D12)的内部，所述施釉漆管(4D13)插嵌在侧棉条(4D14)的内部，所述侧棉条(4D14)设有两个并且分别紧贴于棉芯板块(4D12)的左右两侧。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述电极板盘座(4B)由电极弯弧板(4B1)、碳刷架盘座(4B2)组成，所述电极弯弧板(4B1)安装于碳刷架盘座(4B2)的顶部上，所述电极弯弧板(4B1)与碳刷架盘座(4B2)机械连接。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述电极弯弧板(4B1)由弧扣槽(4B11)、弯弧板块(4B12)、晶闸块(4B13)、滑块体(4B14)组成，所述弧扣槽(4B11)与弯弧板块(4B12)为一体结构，所述晶闸块(4B13)设有两个以上并且均插嵌在弯弧板块(4B12)的内部，所述滑块体(4B14)嵌套于弯弧板块(4B12)的底部下。

4.根据权利要求2所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述碳刷架盘座(4B2)由碳刷架板(4B21)、轮盘厚垫(4B22)、减速撑架块(4B23)、联轴摆杆(4B24)组成，所述碳刷架板(4B21)与轮盘厚垫(4B22)机械连接，所述碳刷架板(4B21)与联轴摆杆(4B24)扣合在一起，所述轮盘厚垫(4B22)与减速撑架块(4B23)相配合。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述衔铁架杆(4C)由衔铁块(4C1)、桁架杆(4C2)组成，所述衔铁块(4C1)与桁架杆(4C2)活动连接，所述衔铁块(4C1)安装于桁架杆(4C2)的中段上。

6.根据权利要求5所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述衔铁块(4C1)由凹型槽(4C11)、铁芯杆(4C12)、磁铁条(4C13)、锁扣块(4C14)组成，所述铁芯杆(4C12)插嵌在凹型槽(4C11)的内部，所述铁芯杆(4C12)通过锁扣块(4C14)与磁铁条(4C13)扣合在一起，所述磁铁条(4C13)与锁扣块(4C14)机械连接。