[发明专利]作用线圈选择式的蚀刻机结构

权利要求书

1.一种作用线圈选择式的蚀刻机结构，其特征在于，其包括：

第一等离子反应腔体，其具有第一反应腔室；

多个第一C型线圈，其是上、下排列于该第一反应腔室的外围，又每一该第一C型线圈具有第一输入端部及第一控制端部，且所述第一控制端部是相互电性连接后与接地端接地连接；以及

第一电源模块，其借由第一开关，选择性的与该第一输入端部电性连接。

2.根据权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中该多个第一C型线圈，其彼此是相互平行的排列。

3.根据权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中该多个第一C型线圈，其彼此是相互等间距的排列。

4.根据权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中所述第一控制端部与该接地端间串联有电容。

5.根据权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中每一该第一控制端部与该接地端间串联有第一接地开关及电容。

6.根据权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于，其进一步具有：

第二等离子反应腔体，其具有与该第一反应腔室相连通的第二反应腔室；

多个第二C型线圈，其是上、下排列于该第二反应腔室的外围，又每一该第二C型线圈具有第二输入端部及第二控制端部，且所述第二控制端部是相互电性连接后与接地端接地连接；以及

第二电源模块，其借由第二开关，选择性的与该第二输入端部电性连接。

7.根据权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中该多个第二C型线圈，其彼此是相互平行的排列。

8.根据权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中该多个第二C型线圈，其彼此是相互等间距的排列。

9.根据权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中所述第二控制端部与该接地端间串联有电容。

10.根据权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中每一该第二控制端部与该接地端间串联有第二接地开关及电容。

11.一种作用线圈选择式的蚀刻机结构，其特征在于，其包括：

第一等离子反应腔体，其具有第一反应腔室；

第一螺旋线圈，其是环绕设置于该第一反应腔室的外围，又该第一螺旋线圈具有第三输入端部及多个第三控制端部；

第三电源模块，其电性连接于该第三输入端部；以及

多个第三接地开关，一对一的电性连接于该第三控制端部与接地端之间。

12.根据权利要求11所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中所述第三控制端部与该接地端间串联有电容。

13.根据权利要求11所述的蚀刻机结构，其特征在于，其进一步具有：

第二等离子反应腔体，其具有与该第一反应腔室相连通的第二反应腔室；

第二螺旋线圈，其是环绕设置于该第二反应腔室的外围，又该第二螺旋线圈具有第四输入端部及多个第四控制端部；

第四电源模块，其电性连接于该第四输入端部；以及

多个第四接地开关，一对一的电性连接于该第四控制端部与该接地端之间。

14.根据权利要求13所述的蚀刻机结构，其特征在于：其中所述第四控制端部与该接地端间串联有电容。