[发明专利]用于痕量气体测量的光学传感器在审

专利信息
申请号: 202010025809.5 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN111521571A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 休·波德莫尔;艾伦·斯科特;格伦·A·桑德斯;苏迪普·穆霍帕迪亚 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G01N21/3504;G01N21/01;B64D47/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 蒋骏;陈岚
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 痕量 气体 测量 光学 传感器
【权利要求书】:

1.一种用于检测痕量气体的系统,所述系统包括:

光学传感器,所述光学传感器安装在载具上,所述光学传感器包括被配置为收集样本的多个干涉仪;和

处理电路,所述处理电路被配置为:

基于所述样本生成数字化信号;

对所述数字化信号应用正向傅里叶变换以生成所述多个干涉仪的光谱信息;以及

使用根据所述光谱信息的对应于气体物质的所述光谱信息的一个或多个吸收强度特征来确定已经检测到所述气体物质。

2.根据权利要求1所述的系统,其中,为了收集样本,所述多个干涉仪被配置为收集正交或三相的样本。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述光学传感器包括望远镜,所述望远镜被配置有与所述多个干涉仪的数值孔径相对应的数值孔径,并且其中所述多个干涉仪被配置为通过所述望远镜收集所述样本。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,为了确定所述气体物质,所述处理电路被配置为确定所述气体物质的量。

5.根据权利要求1所述的系统,其中所述多个干涉仪布置在以堆叠配置布置的多个芯片中的第一芯片中。

6.根据权利要求5所述的系统,其中所述多个芯片中的每个芯片被配置为检测多种气体物质中的相应气体物质。

7.根据权利要求6所述的系统,其中所述多种气体物质包括水蒸气、甲烷、硫化氢、一氧化碳、二氧化碳、磷化氢、苯、氮氧化物、或硫氧化物中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的系统,其中所述光学传感器被配置为在与所述气体物质相距至少一米的相隔距离处收集所述样本。

9.根据权利要求1所述的系统,其中每个样本指定地理位置标签以提供痕量气体浓度的3D图。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的系统,其中所述光学传感器被配置为在红外中操作。

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