[发明专利]电子设备内部尘点检测方法

权利要求书

1.一种电子设备内部尘点检测方法，其特征在于，所述电子设备内部尘点检测方法包括：

提供电子设备，所述电子设备包括本体和透光盖板，所述本体具有待检测区域，所述透光盖板正对所述待检测区域；

提供初始气体；

将所述初始气体进行电离，以形成阴离子气体；

对所述阴离子气体进行过滤，以形成含有阴离子的除尘气体；

向所述透光盖板外表面输出含有阴离子的除尘气体，所述除尘气体中和所述透光盖板外表面的阳离子，降低所述透光盖板外表面的静电吸附力；

除去吸附在所述透光盖板外表面的外部带阳离子的尘点；

检测导光通道内的尘点，其中，所述导光通道为光线透过所述透光盖板至所述待检测区域的通道；

获取目标图像和参考图像，其中，所述目标图像为透过所述透光盖板拍摄所述待检测部所获取的图像；所述参考图像为所述导光通道内无尘点的图像；

将所述目标图像和所述参考图像进行比较；

确定所述目标图像的多个第一像素值、及所述参考图像的多个第二像素值；

将每个所述第一像素值与对应于所述第一像素值的所述第二像素值进行比较，以获取含有差异值的矩阵，其中，所述差异值为所述第一像素值与对应于所述第一像素值的所述第二像素值之间的差值；

根据所述矩阵来检测所述导光通道内的尘点；

根据所述矩阵来检测所述导光通道内的尘点数量；

判断所述导光通道内的尘点数量是否在预设数量范围内，以判断所述导光通道内的尘点密度是否在预设密度范围内；

若否，则对所述电子设备内部进行第一模式去尘处理。

2.如权利要求1所述的电子设备内部尘点检测方法，其特征在于，在获取目标图像的步骤中，包括：

提供光源和传感器；

所述光源向所述透光盖板发出光线，所述光线透过所述透光盖板至所述待检测区域；

所述传感器接收从所述透光盖板透射出来的待检测光线，以形成目标图像。

3.如权利要求1所述的电子设备内部尘点检测方法，其特征在于，在根据所述矩阵来检测导光通道内的尘点的步骤中，包括：

根据所述矩阵确定导光通道内的尘点直径；

判断所述导光通道内的尘点直径是否在预设直径范围内；

若否，则对所述电子设备内部进行第二模式去尘处理。

4.如权利要求1所述的电子设备内部尘点检测方法，其特征在于，所述除尘气体的速度大于或者等于18m/s。

5.如权利要求1所述的电子设备内部尘点检测方法，其特征在于，所述除尘气体的洁净度大于或者等于100级。