[发明专利]掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法有效
| 申请号： | 202010001096.9 | 申请日： | 2020-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN111158211B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 蒋志亮;王威;王世龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F1/72;H10K50/844;H10K59/12;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 李迎亚;姜春咸 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 制备 方法 显示 | ||
1.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
形成图案化的过渡掩膜板；
通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力；
对所述过渡掩膜板执行张网操作，以形成最终掩膜板。
2.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括感应淬火、激光淬火、喷丸工艺中的至少一者。
3.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括感应淬火；所述通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，形成最终掩膜板的步骤包括：
利用涡流，将所述过渡掩膜板加热至预设温度；
通过氮气冷去工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，使冷却后的所述过渡掩膜板形成最终掩膜板。
4.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括喷丸工艺；在形成所述最终掩膜板之后，还包括：对所述最终掩膜板进行张网操作。
5.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预设工艺包括喷丸工艺；所述通过预设工艺对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，形成最终掩膜板的步骤包括：
通过气流加速小球撞击所述过渡掩膜板的部分位置，以对所述过渡掩膜板的部分位置施加预应力，形成最终掩膜板。
6.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述形成图案化的过渡掩膜板的步骤包括：
在基板上形成金属材料层；通过刻蚀工艺对掩膜板基材进行刻蚀，以形成图案化的过渡掩膜板。
7.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预应力的数值范围包括：5MPa至20MPa。
8.根据权利要求7所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述预应力包括10MPa。
9.根据权利要求1所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，所述掩膜板包括金属掩膜板。
10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
利用掩膜板在基底上形成图案化的膜层；所述掩膜板根据权利要求1至9中任意一项所述的掩膜板的制备方法制备形成。
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