[发明专利]改善植物性状的方法、组合物和培养基

权利要求书

1.一种预测微生物菌株的植物原位表型的方法，该方法包括：

(a)在植物排出物培养基(PEM)中培养微生物菌株；

(b)测定所述微生物菌株的体外表型；和

(c)利用来自(b)的体外表型预测所述微生物菌株的植物原位表型。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述微生物菌株是从土壤样品中分离出来的。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述微生物菌株是遗传修饰的微生物菌株。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述遗传修饰的微生物菌株通过随机突变产生。

5.如权利要求3所述的方法，其中所述遗传修饰的微生物菌株通过转座子突变产生。

6.如权利要求3所述的方法，其中所述遗传修饰的微生物菌株通过定点突变产生。

7.如权利要求3-6中任一项所述的方法，其中，所述遗传修饰的微生物菌株是内生菌。

8.如权利要求3-6中任一项所述的方法，其中，所述遗传修饰的微生物菌株是附生菌。

9.如权利要求3-6中任一项所述的方法，其中，所述遗传修饰的微生物菌株是根际的。

10.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述预测的植物原位表型是一种改良表型。

11.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述预测的植物原位表型是一种劣化表型。

12.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述体外表型是固氮活性。

13.如权利要求12所述的方法，其中固氮活性是用乙炔还原法测定的。

14.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述体外表型是铵排出。

15.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述植物原位表型是植物定殖能力。

16.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述体外表型是生长速率。

17.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述体外表型是微生物菌株培养物的峰值光密度。

18.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述植物原位表型是根际适应性。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述根际适应性是用定殖试验测定的。

20.如权利要求19所述的方法，其中所述定殖试验是在水培系统中植物原位进行的。

21.如权利要求19所述的方法，其中所述定殖试验是在生长室中植物原位进行的。

22.如权利要求19所述的方法，其中所述定殖试验是在温室中植物原位进行的。

23.如权利要求19所述的方法，其中所述定殖试验是在田间植物原位进行的。

24.如权利要求18所述的方法，其中所述根际适应性是用细胞生长竞争试验测定的。

25.如权利要求1-9任一项所述的方法，其中所述体外表型是细胞生长竞争试验中的生长。