[发明专利]光学器件测试方法和装置有效
| 申请号: | 201980087649.2 | 申请日: | 2019-01-20 |
| 公开(公告)号: | CN113272694B | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
| 发明(设计)人: | 莉亚·洛巴钦斯基;耶谢·丹齐格;尼灿·利夫内 | 申请(专利权)人: | 鲁姆斯有限公司 |
| 主分类号: | G02B6/10 | 分类号: | G02B6/10;G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 唐京桥;杨林森 |
| 地址: | 以色列耐*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 器件 测试 方法 装置 | ||
1.一种用于测试光学器件的方法,所述方法包括以下步骤:
(a)在多个捕获图像(410)中的每一个中限定至少一个感兴趣区域(ROI,400A,400B),
(i)每个所述捕获图像(410A):
(A)包括测试图案(200),
(B)是从所述光学器件的输出光捕获的,所述输出光是通过将所述测试图案的准直图像投影到所述光学器件中来生成的,并且
(C)是在所述光学器件的有效区域内的相对于所述光学器件的不同位置处捕获的,所述有效区域被用户用于观察所述输出光,
(ii)每个感兴趣区域包括所述测试图案的一部分,
(b)从所述至少一个感兴趣区域(400A,400B)中的每一个提取多个截面(420A,430A),其中,所述多个截面中的每一个(420AH1,…,420AV1,…)包括所述测试图案的所述部分的区域(420AH1A,…,420AV1A,…),从而针对所述测试图案的每个部分形成每个感兴趣区域的对应截面集合,以及
(c)针对所述测试图案的每个部分,比较所述对应截面集合以确定所述光学器件的度量。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括以下步骤:将所述测试图案的准直图像投影到光导光学元件(LOE)中以及捕获从所述光导光学元件投影的多个图像以生成所述多个捕获图像,对每个图像的所述捕获是在相对于所述光学器件的不同的所述位置处。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述捕获是通过正交于所述光导光学元件的输出表面移动的摄像机进行的,所述移动在被用户用于观察从所述光导光学元件投影的所述输出光的所述有效区域内。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述光导光学元件包括部分反射表面的阵列,每个表面与相邻表面分开小平面间隔距离,所述摄像机具有以所述小平面间隔来设置的孔径。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述至少一个感兴趣区域包括与第二感兴趣区域正交的第一感兴趣区域。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述测试图案是十字线,所述第一感兴趣区域是所述十字线的竖直部分的并且所述第二感兴趣区域是所述十字线的水平部分的。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,针对每个感兴趣区域,所述多个截面在从所述测试图案的原点至所述测试图案的边缘上的点的方向上是连续的。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,针对每个感兴趣区域,将所述多个截面彼此平均以生成单个平均截面。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述度量基于相对于所述光学器件的所述位置。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,使用从由以下构成的组中选择的技术根据所述截面来计算所述度量:
(a)半峰全宽(FWHM),
(b)平均峰宽,
(c)峰宽的标准偏差,
(d)峰宽的一阶导数,
(e)峰宽的二阶导数,
(f)最大峰宽,
(g)距预期位置的最大峰移,
(h)峰移的标准偏差,
(i)奈奎斯特频率处的平均调制传递函数,
(j)除奈奎斯特频率之外的频率处的平均调制传递函数,
(k)奈奎斯特频率处的传递函数的标准偏差,以及
(l)除奈奎斯特频率之外的频率处的传递函数的标准偏差。
11.一种其上嵌有用于测试光学器件的计算机可读代码的非暂态计算机可读存储介质,所述计算机可读代码包括用于根据权利要求1至10中任一项所述的方法的步骤的程序代码。
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