[发明专利]光学膜、相位差膜、及它们的制造方法有效
| 申请号: | 201980076581.8 | 申请日: | 2019-11-08 |
| 公开(公告)号: | CN113167954B | 公开(公告)日: | 2023-03-17 |
| 发明(设计)人: | 熊泽一辉;摺出寺浩成 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29C48/305;B29C55/04;C08F8/04;C08F297/04;C08J5/18;B29K9/00;B29L7/00;B29L11/00 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 邵秋雨;刘继富 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 相位差 它们 制造 方法 | ||
1.一种光学膜,由包含共聚物P的树脂C形成,所述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B,
所述光学膜包含显现结构性双折射的相分离结构,所述相分离结构包含以所述聚合单元A作为主成分的相(A)和以所述聚合单元B作为主成分的相(B),
由所述聚合单元A形成的聚合物(A)的折射率n(A)与由所述聚合单元B形成的聚合物(B)的折射率n(B)的差的绝对值|n(A)-n(B)|为0.12以上,
所述聚合单元A为下述通式(A)所表示的单元,
式中,RC为选自苯基、联苯基、萘基、蒽基、菲基、并四苯基、并五苯基和三联苯基中的基团,
R1~R3各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1~12的烷基中的一个,
所述共聚物P中的所述聚合单元A的重量百分比为55重量%以上且小于70重量%。
2.根据权利要求1所述的光学膜,其中,所述聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)与所述聚合物(B)的玻璃化转变温度Tg(B)(℃)的差的绝对值|Tg(A)-Tg(B)|为180℃以上。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述聚合物(A)的玻璃化转变温度Tg(A)(℃)为120℃以上。
4.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述相分离结构具有层状、柱状和球状中的任一种形态。
5.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述相分离结构中的相间距离为200nm以下。
6.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述共聚物P为具有以所述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以所述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的嵌段共聚物。
7.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,在所述共聚物P中,将所述聚合单元A氢化得到的聚合单元HA与所述聚合单元A的摩尔比率为0/100以上且10/90以下。
8.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述聚合单元B为通式(B-1)所表示的单元或通式(B-2)所表示的单元,
式中,R4~R9各自独立地为选自氢原子和碳原子数为1~6的烷基中的一个。
9.根据权利要求8所述的光学膜,其中,在所述共聚物P中,下述通式(B'-1)所表示的单元和下述通式(B'-2)所表示的单元相对于所述聚合单元B的合计摩尔比率为0/100以上且10/90以下,
式中,R4~R9与上述同义。
10.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述聚合单元A为乙烯基萘单元、乙烯基萘衍生物单元、苯乙烯单元或苯乙烯衍生物单元,
所述聚合单元B为将异戊二烯单元氢化得到的单元、将丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将2,3-二甲基-1,3-丁二烯单元氢化得到的单元、将1,3-己二烯单元氢化得到的单元、将2-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元、将3-甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元或将2,4-二甲基-1,3-戊二烯单元氢化得到的单元。
11.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述共聚物P包含三嵌段共聚物P',
所述三嵌段共聚物P'为具有以所述聚合单元A作为主成分的嵌段(A)和以所述聚合单元B作为主成分的嵌段(B)的(A)-(B)-(A)三嵌段共聚物。
12.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述共聚物P具有负的固有双折射值。
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