[发明专利]聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜

说明书

本发明提供一种可以形成薄膜的聚酰胺‑酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺‑酰亚胺树脂的聚酰胺‑酰亚胺清漆及聚酰胺‑酰亚胺薄膜，所述薄膜的机械特性、耐热性、及透明性优异，进而可以达成残留应力的降低。本发明涉及聚酰胺‑酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺‑酰亚胺树脂的聚酰胺‑酰亚胺清漆及聚酰胺‑酰亚胺薄膜，所述聚酰胺‑酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A、源自二胺的结构单元B、及源自芳香族二羧酸二氯化物的结构单元C，结构单元A包含源自下述式(a‑1)所示化合物的结构单元(A‑1)、结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示化合物的结构单元(B‑1)、结构单元C包含源自下述式(c‑1)所示化合物的结构单元(C‑1)。

技术领域

本发明涉及聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜。

背景技术

通常，聚酰亚胺树脂具有优异的机械特性及耐热性，因此正对其在电气/电子部件等领域中的各种各样的利用进行研究。例如，以装置的轻量化、柔性化为目的，期望用塑料基板代替液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板，并正对适合作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜进行研究。像这样的用途的聚酰亚胺薄膜需要高透明性。

对涂布在玻璃支承体、硅晶圆上的清漆进行加热而形成聚酰亚胺薄膜时，聚酰亚胺薄膜中会生成残留应力。聚酰亚胺薄膜的残留应力大时，玻璃支承体、硅晶圆会发生翘曲的问题，因此聚酰亚胺薄膜也要求残留应力的降低。

另一方面，正在进行要于作为聚酰亚胺薄膜的主材料的聚酰亚胺树脂中混合或共聚聚酰胺的尝试。

专利文献1中，作为热、机械及光学特性优异的共聚聚酰胺-酰亚胺薄膜，公开了具有源自2,2’-双(三氟甲基)联苯胺的单元结构、源自4,4’-(六氟异亚丙基)二苯二甲酸酐的单元结构、源自3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐的单元结构及源自对苯二甲酸氯化物(TPC)的单元结构的树脂。

专利文献2中，公开了一种聚酰胺-酰亚胺树脂，其是将以下成分共聚而成的聚酰胺酸的酰亚胺化物：包含选自4,4’-(六氟异亚丙基)二苯二甲酸酐、环丁烷四羧酸二酐、及环戊烷四羧酸二酐中的一种以上的芳香族二酐；芳香族二羰基化合物；和包含2,2’-双(三氟甲基)联苯胺的芳香族二胺。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2014-528490号公报

专利文献2：日本特表2017-503887号公报

发明内容

发明要解决的问题

如上所述，对聚酰亚胺薄膜要求高透明性、低残留应力，但边维持优异的机械特性及耐热性，边使这些特性提高并不容易。

本发明是鉴于这样的状況而做出的，本发明的课题在于，提供一种可以形成薄膜的聚酰胺-酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺-酰亚胺树脂的聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜，所述薄膜的机械特性、耐热性、及透明性优异，进而可达成残留应力的降低。

用于解决问题的方案

本发明人等发现，包含特定结构单元的组合的聚酰胺-酰亚胺树脂可以解决上述问题，从而完成了发明。

即，本发明涉及下述的[1]～[8]。

[1]

一种聚酰胺-酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A、源自二胺的结构单元B、及源自芳香族二羧酸氯化物的结构单元C，

结构单元A包含源自下述式(a-1)所示化合物的结构单元(A-1)，