[发明专利]阵列基板、调光液晶面板及显示面板有效

专利信息
申请号: 201980002624.8 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN113260912B 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 杜悦;张云天;江亮亮;郭磊;戴珂;刘家庆 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1347 分类号: G02F1/1347
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 王莉莉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 调光 液晶面板 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括:

具有多个狭缝结构的第一透明电极层,第一透明电极层包括面积相等的多个畴,所述多个畴包括至少两类畴,所述至少两类畴呈马赛克状排布,其中,位于同一类所述畴的所述狭缝结构的延伸方向相同,位于不同类所述畴的所述狭缝结构的延伸方向不同;

沿行向延伸的多根栅线以及沿列向延伸的多根数据线,所述多根栅线与所述多根数据线交叉界定出呈阵列状排布的多个调光区,每个所述调光区与所述第一透明电极层的至少两类所述畴相交叠,其中,所述栅线沿行向呈折线波形状延伸,包括呈周期排列的多个第一折线单元,所述第一折线单元包括以列向为对称轴对称设置的两个第一直线段,所述数据线沿列向呈折线波形状延伸,包括呈周期排列的多个第二折线单元,所述第二折线单元包括中心对称的第一子段和第二子段,所述第一子段和所述第二子段均包括以行向为对称轴对称设置的两个第二直线段;

位于相邻两根所述数据线之间的公共电极线,所述公共电极线沿列向呈折线波形状延伸,包括呈周期排列的多个第三折线单元,所述第三折线单元包括中心对称的第三子段和第四子段,所述第三子段和所述第四子段均包括以行向为对称轴对称设置的两个第三直线段。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其中:所述畴的面积与所述调光区的面积的比值大于等于1/16,且小于等于1/2。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其中:所述公共电极线和所述数据线的形状大致相对列向对称,或者,所述公共电极线和所述数据线的形状大致相同。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其中:在垂直于所述阵列基板的方向上,所述第一折线单元的端点与所述第二折线单元的端点或中点相重合,所述第一折线单元的中点与所述第三折线单元的端点或中点相重合。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其中:在垂直于所述阵列基板的方向上,位于同一类所述畴的所述第二直线段和所述第三直线段与所述狭缝结构的延伸方向相同。

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其中:所述狭缝结构与列向所呈锐角夹角的范围大于等于7°,且小于等于11°。

7.根据权利要求1-6任一项所述的阵列基板,其中:所述多个畴的形状尺寸相同且均为等腰三角形,所述多个畴包括两类畴。

8.根据权利要求7所述的阵列基板,其中:在垂直于所述阵列基板的方向上,每个所述第一直线段与两个所述等腰三角形的位于同一侧的腰大致重合;

所述第二折线单元和所述第三折线单元在列向上的正投影大致等于所述等腰三角形的高的四倍。

9.根据权利要求1所述的阵列基板,其中,所述第一透明电极层包括多个干电极,以及在每个所述干电极两侧与所述干电极连接的多个支电极,其中:

每个所述干电极位于相邻两个不同类的所述畴的狭缝结构之间;

在一个所述畴内,所述支电极与所述狭缝结构的延伸方向相同,相邻所述支电极被所述狭缝结构间隔;

至少一个所述干电极沿行向延伸。

10.根据权利要求1所述的阵列基板,还包括:设于所述栅线和所述数据线交叉处且分别与所述栅线和所述数据线连接的薄膜晶体管,其中:

沿行向排列的所述薄膜晶体管设置于各自所相邻的所述数据线的同一侧;

沿列向排列的所述薄膜晶体管交替的设置于所相邻的所述数据线的两侧。

11.根据权利要求10所述的阵列基板,其中:在垂直于所述阵列基板的方向上,各个所述薄膜晶体管位于同一类所述畴内。

12.根据权利要求10所述的阵列基板,还包括:与所述第一透明电极层绝缘间隔设置的第二透明电极层,所述第二透明电极层被配置为与所述第一透明电极层形成控制液晶分子偏转的边缘电场。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980002624.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top